| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 主要符号表 | 第22-23页 |
| 1 绪论 | 第23-40页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第23-24页 |
| 1.2 国内外相关研究现状及分析 | 第24-36页 |
| 1.2.1 多断口真空断路器静动态绝缘特性研究 | 第24-29页 |
| 1.2.2 多断口真空断路器电压分布机理及均压措施研究 | 第29-31页 |
| 1.2.3 弧后特性及弧后电流测量研究 | 第31-32页 |
| 1.2.4 多断口真空断路器电弧及磁场调控措施研究 | 第32-36页 |
| 1.3 现有研究存在的问题与不足 | 第36-37页 |
| 1.4 本文主要研究内容及章节安排 | 第37-40页 |
| 2 多断口真空断路器静动态电压分布机理及均压优化设计 | 第40-57页 |
| 2.1 引言 | 第40页 |
| 2.2 静动态电压分布机理分析 | 第40-47页 |
| 2.2.1 静态电压分布等值电路 | 第41-42页 |
| 2.2.2 等效电容参数影响规律 | 第42-43页 |
| 2.2.3 弧后特性对电压分布的影响 | 第43-46页 |
| 2.2.4 多断口真空断路器静动态电压机理 | 第46-47页 |
| 2.3 多断口真空断路器的电场分析及优化设计 | 第47-53页 |
| 2.3.1 多断口真空断路器电场分析及等效电容参数影响规律 | 第47-50页 |
| 2.3.2 等效电容参数影响因素研究 | 第50-52页 |
| 2.3.3 双断口真空断路器静态自均压优化设计 | 第52-53页 |
| 2.4 多断口真空断路器静态电压分布特性研究 | 第53-56页 |
| 2.4.1 试验电路 | 第53-54页 |
| 2.4.2 无均压电容情况下电压分布关系 | 第54页 |
| 2.4.3 非同期情况下电压分布关系 | 第54-55页 |
| 2.4.4 不同结构VCB串联真空间隙的电压分布特性 | 第55-56页 |
| 2.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 3 多断口真空断路器弧后特性测量系统研究 | 第57-82页 |
| 3.1 引言 | 第57页 |
| 3.2 基于电流转移特性及磁吹的弧后电流测量方法 | 第57-59页 |
| 3.2.1 结构及原理 | 第57-58页 |
| 3.2.2 弧后电流测量原理分析 | 第58-59页 |
| 3.3 电流转移特性研究 | 第59-68页 |
| 3.3.1 电流转移特性试验研究平台 | 第59-60页 |
| 3.3.2 电流转移特性研究 | 第60-64页 |
| 3.3.3 磁吹对电流转移特性的影响 | 第64-68页 |
| 3.4 基于电流转移特性及磁吹的弧后电流测量装置 | 第68-74页 |
| 3.4.1 结构及参数设计 | 第68-70页 |
| 3.4.2 脉冲横向磁场(ETMF)控制系统 | 第70-71页 |
| 3.4.3 弧后电流测量装置智能控制系统 | 第71-73页 |
| 3.4.4 样机照片及应用 | 第73-74页 |
| 3.5 真空断路器弧后特性试验研究 | 第74-80页 |
| 3.5.1 弧后特性试验电路 | 第74页 |
| 3.5.2 弧后电流测量结果 | 第74-77页 |
| 3.5.3 弧后特性影响规律 | 第77-80页 |
| 3.6 多断口真空断路器弧后特性测量方法 | 第80-81页 |
| 3.7 本章小结 | 第81-82页 |
| 4 多断口真空断路器协同特性研究 | 第82-102页 |
| 4.1 引言 | 第82页 |
| 4.2 多断口真空断路器弧后介质恢复特性仿真 | 第82-87页 |
| 4.2.1 弧后介质恢复模型 | 第82-84页 |
| 4.2.2 弧后动态协同特性仿真 | 第84-87页 |
| 4.3 多断口真空断路器协同特性试验研究 | 第87-97页 |
| 4.3.1 开断能力及动态电压分布试验 | 第89-93页 |
| 4.3.2 弧后电荷对电压分布的影响 | 第93-95页 |
| 4.3.3 均压电容对电压分布及开断能力的影响 | 第95-97页 |
| 4.4 多断口真空断路器协同控制方法 | 第97-100页 |
| 4.4.1 最佳间隙配合算法 | 第97-98页 |
| 4.4.2 多断口真空断路器最佳间隙配合特性 | 第98-99页 |
| 4.4.3 协同特性控制方法及实现 | 第99-100页 |
| 4.5 本章小结 | 第100-102页 |
| 5 多断口真空断路器磁场调控特性及措施研究 | 第102-124页 |
| 5.1 引言 | 第102页 |
| 5.2 多断口真空断路器磁场调控机理分析 | 第102-106页 |
| 5.2.1 电弧等离子体与AMF磁场调控相互作用机理 | 第103-106页 |
| 5.2.2 电弧等离子体与RMF磁场调控相互作用机理 | 第106页 |
| 5.3 多断口真空断路器AMF磁场调控试验平台 | 第106-112页 |
| 5.3.1 磁场调控试验回路 | 第106-108页 |
| 5.3.2 磁场线圈理论分析及结构设计 | 第108-110页 |
| 5.3.3 磁场调控线圈驱动电路及控制系统 | 第110-112页 |
| 5.4 AMF磁场调控对电弧发展演变过程的影响 | 第112-117页 |
| 5.4.1 同相位磁场调控对电弧发展过程演变过程的影响 | 第112-114页 |
| 5.4.2 脉冲磁场调控时刻对电弧发展过程演变过程的影响 | 第114-116页 |
| 5.4.3 磁场调控时刻对弧后特性的影响 | 第116-117页 |
| 5.5 AMF磁场对动态电压分布特性的影响 | 第117-123页 |
| 5.5.1 不同AMF磁场调控方式下的电压分布情况 | 第117-119页 |
| 5.5.2 纵向磁场(AMF)对动态电压分布影响机理 | 第119-122页 |
| 5.5.3 多断口真空断路器最佳磁场调控措施 | 第122-123页 |
| 5.6 本章小结 | 第123-124页 |
| 6 多断口真空断路器磁偏弧特性研究 | 第124-139页 |
| 6.1 引言 | 第124页 |
| 6.2 多断口真空断路器磁场分布及偏磁场计算 | 第124-129页 |
| 6.2.1 不同触头结构真空灭弧室磁场仿真分析 | 第124-126页 |
| 6.2.2 双断口真空断路器磁场分布 | 第126-127页 |
| 6.2.3 双断口真空断路器偏磁计算与分析 | 第127-129页 |
| 6.3 磁偏弧影响机理分析 | 第129-131页 |
| 6.3.1 扩散电弧与TMF作用机理 | 第129-131页 |
| 6.3.2 弧柱电弧与TMF作用机理 | 第131页 |
| 6.4 多断口真空断路器磁偏弧试验研究平台 | 第131-133页 |
| 6.5 磁偏弧对电弧发展及弧后特性的影响 | 第133-138页 |
| 6.5.1 无偏磁场时电弧及弧后特性 | 第133-134页 |
| 6.5.2 有偏磁场时电弧发展及弧后特性的影响 | 第134-138页 |
| 6.6 本章小结 | 第138-139页 |
| 7 结论与展望 | 第139-142页 |
| 7.1 结论 | 第139-140页 |
| 7.2 创新点 | 第140-141页 |
| 7.3 展望 | 第141-142页 |
| 参考文献 | 第142-150页 |
| 攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第150-153页 |
| 致谢 | 第153-154页 |
| 作者简介 | 第154页 |
