摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第13-50页 |
1.1 光催化概述 | 第13-14页 |
1.2 半导体光催化原理 | 第14-15页 |
1.3 光催化反应的影响因素 | 第15-19页 |
1.3.1 光照强度 | 第16页 |
1.3.2 催化剂的性质和浓度 | 第16页 |
1.3.3 底物性质和浓度 | 第16-17页 |
1.3.4 反应溶液的pH | 第17-18页 |
1.3.5 反应温度 | 第18页 |
1.3.6 电子捕获剂 | 第18-19页 |
1.3.7 无机离子 | 第19页 |
1.4 TiO_2光催化概述 | 第19-26页 |
1.4.1 TiO_2的晶型结构 | 第20-21页 |
1.4.2 TiO_2的合成 | 第21-23页 |
1.4.3 TiO_2的光催化原理 | 第23页 |
1.4.4 TiO_2的光催化活性及其改进方法 | 第23-26页 |
1.5 TiO_2表面修饰无机阴离子 | 第26-28页 |
1.6 论文选题依据及思路 | 第28-31页 |
参考文献 | 第31-50页 |
第二章 阴离子表面修饰板钛矿TiO_2光催化降解有机物的研究 | 第50-70页 |
2.1 引言 | 第50-51页 |
2.2 实验部分 | 第51-55页 |
2.2.1 主要材料和试剂 | 第51-52页 |
2.2.2 催化剂的制备 | 第52页 |
2.2.3 催化剂的表征 | 第52-53页 |
2.2.4 光催化反应 | 第53-54页 |
2.2.5 吸附实验 | 第54-55页 |
2.2.6 H_2O_2的检测 | 第55页 |
2.2.7 ·OH的检测 | 第55页 |
2.3 结果与讨论 | 第55-64页 |
2.3.1 催化剂的表征 | 第55-56页 |
2.3.2 光催化降解有机物 | 第56-59页 |
2.3.3 溶液pH的影响 | 第59-60页 |
2.3.4 阴离子浓度的影响 | 第60-62页 |
2.3.5 活性物种的测定 | 第62-64页 |
2.4 结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-70页 |
第三章 磷酸钴表面修饰锐钛矿TiO_2光催化降解有机物活性及机理 | 第70-86页 |
3.1 引言 | 第70-71页 |
3.2 实验部分 | 第71-73页 |
3.2.1 主要材料和试剂 | 第71页 |
3.2.2 催化剂的合成 | 第71-72页 |
3.2.3 催化剂的表征 | 第72页 |
3.2.4 光催化实验与分析 | 第72-73页 |
3.2.5 H_2O_2的测定 | 第73页 |
3.3 结果与讨论 | 第73-81页 |
3.3.1 催化剂表征 | 第73-76页 |
3.3.2 光催化降解有机物 | 第76-78页 |
3.3.3 H_2O_2的测定 | 第78-79页 |
3.3.4 不同变量的影响 | 第79-81页 |
3.4 结论 | 第81-83页 |
参考文献 | 第83-86页 |
第四章 结论与展望 | 第86-88页 |
4.1 研究结论 | 第86-87页 |
4.2 展望 | 第87-88页 |
攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第88-89页 |
致谢 | 第89页 |