| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 WO_3的结构与性质 | 第12-15页 |
| 1.3 纳米结构WO_3薄膜的制备方法 | 第15-20页 |
| 1.3.1 化学沉积法 | 第15-16页 |
| 1.3.2 物理气相沉积法 | 第16-18页 |
| 1.3.3 掠射角磁控溅射沉积纳米结构WO_3薄膜 | 第18-20页 |
| 1.4 纳米结构WO_3薄膜的应用 | 第20-23页 |
| 1.4.1 电致变色方面的应用 | 第21页 |
| 1.4.2 气致变色方面的应用 | 第21-22页 |
| 1.4.3 光致变色方面的应用 | 第22-23页 |
| 1.5 研究意义和主要研究内容 | 第23-25页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第23页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验过程与测试方法 | 第25-29页 |
| 2.1 实验原料与仪器 | 第25页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第25页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第25页 |
| 2.2 实验流程 | 第25-27页 |
| 2.2.1 基片预处理 | 第25-26页 |
| 2.2.2 溅射仪开机前的准备 | 第26页 |
| 2.2.3 溅射镀膜 | 第26-27页 |
| 2.3 薄膜性能表征与测试 | 第27-29页 |
| 2.3.1 扫描电镜分析 | 第27页 |
| 2.3.2 X-射线衍射分析 | 第27页 |
| 2.3.3 紫外-可见分光光度计分析 | 第27-29页 |
| 第3章 直流掠射角磁控溅射沉积纳米结构WO_3薄膜 | 第29-40页 |
| 3.1 氧分压对WO_3薄膜表面形貌和透光度的影响 | 第29-32页 |
| 3.1.1 氧分压对WO_3薄膜表面形貌的影响 | 第29-31页 |
| 3.1.2 氧分压对WO_3薄膜透光度的影响 | 第31-32页 |
| 3.2 掠射角度对WO_3薄膜形貌和透光度的影响 | 第32-36页 |
| 3.2.1 掠射角度对WO_3薄膜形貌的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.2 掠射角度对WO_3薄膜透光度的影响 | 第35-36页 |
| 3.3 热处理对WO_3薄膜晶体结构和形貌的影响 | 第36-39页 |
| 3.3.1 热处理对WO_3薄膜晶体结构的影响 | 第36-38页 |
| 3.3.2 热处理对WO_3薄膜形貌的影响 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 脉冲掠射角磁控溅射沉积纳米结构WO_3薄膜 | 第40-55页 |
| 4.1 氧分压对WO_3薄膜形貌和透光度的影响 | 第40-41页 |
| 4.1.1 氧分压对WO_3薄膜形貌的影响 | 第40-41页 |
| 4.1.2 氧分压对WO_3薄膜透光度的影响 | 第41页 |
| 4.2 直流与脉冲电源对WO_3薄膜沉积速率的比较 | 第41-43页 |
| 4.3 掠射角度对WO_3薄膜形貌和透光度的影响 | 第43-45页 |
| 4.3.1 掠射角度对WO_3薄膜形貌的影响 | 第43-45页 |
| 4.3.2 掠射角度对WO_3薄膜透光度的影响 | 第45页 |
| 4.4 热处理对WO_3薄膜晶体结构和形貌的影响 | 第45-49页 |
| 4.4.1 热处理对WO_3薄膜晶体结构的影响 | 第45-47页 |
| 4.4.2 热处理对WO_3薄膜形貌的影响 | 第47-49页 |
| 4.5 柔性衬底沉积WO_3薄膜 | 第49-53页 |
| 4.5.1 溅射功率对WO_3薄膜形貌的影响 | 第49-51页 |
| 4.5.2 衬底加热电压对WO_3薄膜表面形貌和透光度的影响 | 第51-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-55页 |
| 第5章 WO_3薄膜电致变色性能测试 | 第55-64页 |
| 5.1 致密WO_3薄膜与纳米结构WO_3薄膜的制备 | 第55页 |
| 5.1.1 基片清洗 | 第55页 |
| 5.1.2 溅射镀膜 | 第55页 |
| 5.2 电解液的制备 | 第55-56页 |
| 5.3 WO_3薄膜的致色 | 第56-60页 |
| 5.4 掠射角度对电致变色薄膜透光度的影响 | 第60-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 在学期间研究成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
