| 中文摘要 | 第1-9页 |
| 英文摘要 | 第9-11页 |
| 1 前言 | 第11-23页 |
| ·研究背景及意义 | 第11-13页 |
| ·抗性细菌和抗性基因来源与危害 | 第13-18页 |
| ·抗性细菌及抗性基因研究现状 | 第18-22页 |
| ·本文研究内容 | 第22页 |
| ·技术路线 | 第22-23页 |
| 2 材料与方法 | 第23-33页 |
| ·实验材料 | 第23-26页 |
| ·标准样品与常用试剂 | 第23-24页 |
| ·材料与试剂盒 | 第24页 |
| ·抗性细菌及抗性基因信息 | 第24-25页 |
| ·引物资料 | 第25页 |
| ·常用试剂和培养基的配制 | 第25页 |
| ·实验仪器 | 第25-26页 |
| ·N,F-TiO_2催化薄膜制备 | 第26-27页 |
| ·抗性细菌准备 | 第27-28页 |
| ·抗性细菌及抗性基因去除实验 | 第28页 |
| ·抗性细菌检测 | 第28-29页 |
| ·标准曲线 | 第28-29页 |
| ·抗性细菌测定 | 第29页 |
| ·抗性基因提取与检测 | 第29-32页 |
| ·抗性基因提取 | 第29-31页 |
| ·抗性基因检测分析 | 第31-32页 |
| ·数据分析 | 第32-33页 |
| 3 结果与讨论 | 第33-54页 |
| ·TiO_2催化薄膜表征 | 第33-37页 |
| ·XRD分析 | 第33-34页 |
| ·XPS分析 | 第34-35页 |
| ·UV-vis分析 | 第35-36页 |
| ·SEM分析 | 第36-37页 |
| ·抗性细菌去除 | 第37-45页 |
| ·H_2O_2对抗性细菌的去除 | 第37-38页 |
| ·H_2O_2/UV对抗性细菌的去除 | 第38-40页 |
| ·UV/TiO_2催化薄膜对抗性细菌的去除 | 第40-42页 |
| ·H_2O_2/UV/TiO_2催化薄膜对抗性细菌的去除 | 第42-44页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| ·抗性基因降解 | 第45-54页 |
| ·H_2O_2对抗性基因的去除 | 第45-46页 |
| ·H_2O_2/UV对抗性基因的去除 | 第46-48页 |
| ·UV/TiO_2催化薄膜对抗性基因的去除 | 第48-51页 |
| ·H_2O_2/UV/TiO_2催化薄膜对抗性基因的去除 | 第51-52页 |
| ·结论 | 第52-54页 |
| 4 结论与展望 | 第54-56页 |
| ·本文的主要结论 | 第54-55页 |
| ·本文的创新之处 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-56页 |
| 5 参考文献 | 第56-62页 |
| 6 致谢 | 第62-63页 |
| 7 攻读学位期间发表论文情况 | 第63页 |