| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·ZnO材料概述 | 第10-12页 |
| ·ZnO纳米材料应用 | 第12-14页 |
| ·发光二极管 | 第12页 |
| ·光催化 | 第12页 |
| ·气敏传感器 | 第12-13页 |
| ·纳米发电机 | 第13页 |
| ·紫外传感器 | 第13页 |
| ·场发射显示器 | 第13-14页 |
| ·电子发射 | 第14-17页 |
| ·热电子发射 | 第14-15页 |
| ·肖特基效应 | 第15-16页 |
| ·场致电子发射 | 第16-17页 |
| ·描述场发射性能（FE）的参数 | 第17-18页 |
| ·场发射材料的选择要求及现状 | 第18-20页 |
| ·低功函数 | 第18页 |
| ·容易获得高的形状增强因子 | 第18页 |
| ·高熔点及高化学稳定性 | 第18页 |
| ·高热导率及高电导率 | 第18-19页 |
| ·场发射阴极材料的选取 | 第19-20页 |
| ·ZnO纳米材料场发射研究现状 | 第20-23页 |
| ·本论文的研究内容和意义 | 第23-24页 |
| 第二章 Zn O纳米结构的合成与表征 | 第24-30页 |
| ·ZnO纳米结构的合成 | 第24-25页 |
| ·化学气相沉积（CVD） | 第24页 |
| ·水热法 | 第24-25页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积（PECVD） | 第25页 |
| ·电沉积法 | 第25页 |
| ·ZnO纳米结构的表征 | 第25-28页 |
| ·场发射扫描电镜（SEM） | 第25-26页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第26-27页 |
| ·X射线衍射仪（XRD） | 第27-28页 |
| ·光致发光光谱（PL） | 第28页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第28页 |
| ·场发射测试装置 | 第28-30页 |
| 第三章 镀金Si衬底生长ZnO纳米结构 | 第30-40页 |
| ·实验 | 第30页 |
| ·Zn蒸汽分压与O2分压之比对ZnO纳米结构形貌的影响 | 第30-36页 |
| ·延长生长时间对ZnO纳米结构形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·部分样品的XRD表征 | 第37-38页 |
| ·部分样品的FE曲线 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 镀有ZnO籽晶层的Si衬底生长Zn O纳米结构 | 第40-52页 |
| ·实验 | 第40页 |
| ·MgO作为缓冲层对ZnO纳米阵列的影响 | 第40-46页 |
| ·MgO缓冲层对ZnO籽晶层的影响 | 第40-43页 |
| ·MgO缓冲层对纳米线形貌、结构的影响 | 第43-45页 |
| ·MgO缓冲层对纳米线场发射的影响 | 第45-46页 |
| ·场发射后的纳米线阵列的SEM表征 | 第46页 |
| ·样品高温氧气退火对场发射性能的影响 | 第46-50页 |
| ·样品高温氧气退火的影响 | 第46-49页 |
| ·样品进行高温氧气退火后场发射的测试 | 第49-50页 |
| ·镀金衬底及镀有籽晶层衬底生长的纳米线的场发射性能的比较 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 结论与展望 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| ·对未来工作的展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-62页 |
| 作者简历以及在硕士间取得的科研成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
