| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·光催化技术概述 | 第10页 |
| ·半导体光催化剂及其光催化原理 | 第10-12页 |
| ·铋系半导体光催化剂 | 第12-16页 |
| ·Bi_2O_3光催化剂 | 第12-13页 |
| ·卤氧化铋光催化剂 | 第13-14页 |
| ·钒酸铋光催化剂 | 第14-15页 |
| ·钼酸铋光催化剂 | 第15页 |
| ·钨酸铋光催化剂 | 第15-16页 |
| ·钨酸铋的制备方法 | 第16-19页 |
| ·固相反应法 | 第16-17页 |
| ·水热法 | 第17-18页 |
| ·溶剂热法 | 第18页 |
| ·微乳液法 | 第18页 |
| ·低温燃烧法 | 第18-19页 |
| ·钨酸铋的掺杂改性研究 | 第19-21页 |
| ·金属离子掺杂 | 第19-20页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第20页 |
| ·半导体复合 | 第20-21页 |
| ·研究目的与内容 | 第21-23页 |
| ·研究目的 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 低温燃烧法制备纳米Bi_2WO_6光催化剂及其性能研究 | 第23-41页 |
| ·材料与方法 | 第23-25页 |
| ·试剂与仪器 | 第23-24页 |
| ·Bi_2WO_6光催化剂的制备 | 第24-25页 |
| ·催化剂表征方法 | 第25-26页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FESEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第25页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱(UV-vis DRS) | 第25-26页 |
| ·比表面积测定 | 第26页 |
| ·等电点(pHpzc)测定 | 第26页 |
| ·催化剂性能评价 | 第26-28页 |
| ·吸附性能评价 | 第26-27页 |
| ·光催化性能评价 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-39页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6 XRD分析 | 第28-29页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6形貌分析（SEM和TEM） | 第29-30页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6 UV-vis漫反射光谱分析 | 第30-31页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6比表面积及孔径分布分析 | 第31-32页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6等电点(pHpzc) | 第32-33页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6吸附性能 | 第33-34页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6光催化性能 | 第34-36页 |
| ·LCM-Bi_2WO_6的光催化降解机理 | 第36-39页 |
| ·小结 | 第39-41页 |
| 第三章 溶液中阴/阳离子对Bi_2WO_6降解RhB的影响 | 第41-50页 |
| ·材料与方法 | 第41-42页 |
| ·试剂与仪器 | 第41页 |
| ·溶液pH对LCM-Bi_2WO_6吸附性能和光催化性能的影响 | 第41-42页 |
| ·溶液中阴/阳离子对LCM-Bi_2WO_6光催化性能的影响 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-49页 |
| ·溶液pH值对LCM-Bi_2WO_6吸附性能和光催化性能的影响 | 第42-44页 |
| ·不同酸度调节剂对LCM-Bi_2WO_6吸附性能和光催化性能的影响 | 第44-46页 |
| ·阴/阳离子对LCM-Bi_2WO_6吸附性能和光催化性能的影响 | 第46-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第四章 水热法制备Ni掺杂Bi_2WO_6及其性能研究 | 第50-70页 |
| ·材料与方法 | 第50-52页 |
| ·试剂与仪器 | 第50-51页 |
| ·Ni掺杂Bi_2WO_6光催化剂的制备 | 第51-52页 |
| ·催化剂表征方法 | 第52-53页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第52页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FESEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第52页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱(UV-vis DRS) | 第52-53页 |
| ·比表面积测定 | 第53页 |
| ·等电点(pHpzc)测定 | 第53页 |
| ·催化剂性能评价 | 第53-54页 |
| ·吸附性能评价 | 第53-54页 |
| ·光催化性能评价 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-68页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6 XRD分析 | 第54-55页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6形貌分析（SEM和HRTEM） | 第55-57页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6 EDS分析 | 第57-58页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6 UV-vis漫反射光谱分析 | 第58-59页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6比表面积及孔径分布分析 | 第59-60页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6等电点(pHpzc) | 第60-61页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6吸附性能 | 第61-62页 |
| ·Ni-Bi_2WO_6光催化性能 | 第62-65页 |
| ·溶液pH值对Ni-Bi_2WO_6吸附性能和光催化性能的影响 | 第65-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
| ·主要结论 | 第70页 |
| ·创新点 | 第70-71页 |
| ·研究展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
