| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-34页 |
| ·钕铁硼永磁材料的发展 | 第9-11页 |
| ·NdFeB的制备方法 | 第11页 |
| ·烧结钕铁硼的结构 | 第11-12页 |
| ·烧结钕铁硼的腐蚀机理 | 第12-15页 |
| ·烧结NdFeB的防腐蚀措施及现状 | 第15-32页 |
| ·提高烧结NdFeB磁体本身抗蚀性能 | 第15-17页 |
| ·烧结钕铁硼表面防护法 | 第17-21页 |
| ·物理气相沉积技术及其在烧结钕铁硼防护中的应用 | 第21-32页 |
| ·本文研究的目的、意义及主要内容 | 第32-34页 |
| ·本文研究的目的、意义 | 第32-33页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第33-34页 |
| 第二章 实验方法 | 第34-41页 |
| ·实验材料 | 第34页 |
| ·磁控溅射设备 | 第34-35页 |
| ·试样前处理工艺 | 第35页 |
| ·薄膜制备过程 | 第35-37页 |
| ·分析测试方法 | 第37-41页 |
| ·结构表征 | 第37页 |
| ·腐蚀行为表征 | 第37-39页 |
| ·力学性能表征 | 第39-41页 |
| 第三章 磁控溅射Cr_2O_3陶瓷薄膜的结构和性能 | 第41-52页 |
| ·无离子束辅助技术磁控溅射Cr_2O_3薄膜结构和性能 | 第41-46页 |
| ·离子束辅助技术对Cr_2O_3薄膜结构和性能的改善 | 第46-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 磁控溅射氧化物陶瓷薄膜的结构和性能 | 第52-59页 |
| ·氧化物陶瓷类薄膜的形貌及结构 | 第52-55页 |
| ·氧化物陶瓷类薄膜的性能 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 磁控溅射CrAlN陶瓷薄膜的结构和性能 | 第59-66页 |
| ·CrAlN薄膜中各元素含量及偏压对薄膜结构的影响 | 第59-63页 |
| ·CrAlN薄膜中Al含量及偏压对薄膜硬度和摩擦性能的影响 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第六章 烧结NdFeB磁体磁控溅射防护的批量试制 | 第66-74页 |
| ·研究物理气相沉积对磁体防护的目的 | 第66页 |
| ·物理气相沉积磁体防护中需要解决的问题 | 第66-67页 |
| ·物理气相沉积防护磁体在批量生产中的表现 | 第67-74页 |
| ·主要事项 | 第67-68页 |
| ·设备调试 | 第68-71页 |
| ·批量生产中的镀膜及问题 | 第71-74页 |
| 第七章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
