| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-31页 |
| ·极紫外光刻技术 | 第11-20页 |
| ·极紫外光学元件的表面氧化与碳沉积 | 第20-27页 |
| ·光学表面氧化和碳污染沉积的解决方案 | 第27-29页 |
| ·研究背景及意义 | 第29页 |
| ·论文的结构安排 | 第29-31页 |
| 第2章 极紫外碳沉积模型与反射镜保护层材料选择 | 第31-57页 |
| ·表面有机物吸附与碳沉积 | 第31-35页 |
| ·光学表面碳沉积模型的建立 | 第35-40页 |
| ·碳沉积主要影响因素的分析 | 第40-46页 |
| ·多层膜保护层材料选择 | 第46-53页 |
| ·极紫外光刻机分系统保护层选择 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第3章 极紫外微缩投影物镜保护层的制备与表征 | 第57-77页 |
| ·磁控溅射沉积技术介绍 | 第58-59页 |
| ·表征手段 | 第59-63页 |
| ·RuO_2和TiO_2保护层的工艺研究 | 第63-67页 |
| ·充氧量对RuO_2和TiO_2薄膜的影响 | 第67-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第4章TiO_2保护层制备工艺优化方法 | 第77-92页 |
| ·工艺优化方案 | 第78-79页 |
| ·“迟滞回线”现象分析 | 第79-82页 |
| ·TiO_2薄膜的表征与分析 | 第82-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第5章 极紫外大曲率反射镜抗污染多层膜结构设计与功能拓展 | 第92-115页 |
| ·极紫外多层膜反射率计算基础 | 第92-96页 |
| ·表面改性不敏感的非周期膜系设计 | 第96-105页 |
| ·提高光谱纯度及抗表面污染能力的复合功能膜系设计 | 第105-113页 |
| ·本章小结 | 第113-115页 |
| 第6章 总结与展望 | 第115-117页 |
| ·论文研究总结 | 第115-116页 |
| ·研究展望 | 第116-117页 |
| 参考文献 | 第117-126页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第126-127页 |
| 指导教师及作者简介 | 第127-128页 |
| 致谢 | 第128页 |