摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
1 绪论 | 第10-23页 |
·环氧丙烷合成工艺研究 | 第10-13页 |
·以 H_2O_2为氧化剂的丙烯环氧化反应 | 第11-12页 |
·以分子氧为氧化剂的丙烯环氧化反应 | 第12-13页 |
·丙烯环氧化的发展前景 | 第13页 |
·TS-1 沸石膜研究概述 | 第13-17页 |
·TS-1 沸石分子筛的结构和性质 | 第13-14页 |
·TS-1 沸石分子筛与 TS-1 沸石膜的发展和研究现状 | 第14-17页 |
·TS-1 沸石膜的制备 | 第17-20页 |
·原位水热合成法 | 第18页 |
·二次生长法(晶种法) | 第18-19页 |
·微波辐射法 | 第19页 |
·脉冲激光蒸镀法 | 第19-20页 |
·化学气相沉积法 | 第20页 |
·电泳沉积法 | 第20页 |
·TS-1 沸石膜的表征 | 第20-22页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第20-21页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第21页 |
·傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第21页 |
·紫外漫反射光谱(UV-Vis) | 第21-22页 |
·其他表征手段 | 第22页 |
·课题的选择与研究内容 | 第22-23页 |
2 TS-1 沸石膜的制备研究 | 第23-39页 |
·引言 | 第23页 |
·实验部分 | 第23-25页 |
·实验试剂 | 第23-24页 |
·实验设备 | 第24-25页 |
·TS-1 沸石膜的制备 | 第25-26页 |
·晶种的制备 | 第25页 |
·载体的预处理及晶种预涂 | 第25页 |
·TS-1 沸石膜的合成 | 第25-26页 |
·主要表征方式 | 第26-27页 |
·结果与讨论 | 第27-38页 |
·载体预涂沸石晶种的表征及分析 | 第27-28页 |
·TS-1 沸石膜的表征及分析 | 第28-29页 |
·晶化时间的影响 | 第29-32页 |
·晶化时间对 TS-1 沸石膜的渗透性能的影响 | 第32-33页 |
·不同 Ti/Si 比对 TS-1 沸石膜生长的影响 | 第33-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
3 丙烯环氧化合成环氧丙烷的研究 | 第39-53页 |
·引言 | 第39页 |
·实验部分 | 第39-43页 |
·实验试剂与仪器 | 第39-40页 |
·反应装置及实验方法 | 第40-42页 |
·H_2O_2含量的测定与产物分析 | 第42页 |
·TS-1 沸石膜催化性能评价 | 第42-43页 |
·结果与讨论 | 第43-52页 |
·时间对反应的影响 | 第43-44页 |
·不同温度对反应的影响 | 第44-45页 |
·不同压力对反应的影响 | 第45-46页 |
·液体进料流量对反应的影响 | 第46-48页 |
·过氧化氢浓度对反应的影响 | 第48-49页 |
·不同 Ti/Si 比合成 TS-1 沸石膜对反应的影响 | 第49-50页 |
·TS-1 膜与 TS-1 颗粒性能比较 | 第50-51页 |
·TS-1 膜再生性能的考察 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
4 结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-59页 |
攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
致谢 | 第60页 |