电弧源制备Ag薄膜的工艺研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| ·光学薄膜的制备技术 | 第8-9页 |
| ·电弧离子镀的应用及现状 | 第9页 |
| ·银膜应用及现状 | 第9-10页 |
| ·研究内容及章节安排 | 第10-12页 |
| ·研究的内容及意义 | 第10-11页 |
| ·本文章节安排 | 第11-12页 |
| 2 电弧离子镀和银膜 | 第12-21页 |
| ·离子镀技术 | 第12-14页 |
| ·离子镀的特点 | 第13页 |
| ·离子镀的分类 | 第13-14页 |
| ·电弧离子镀技术 | 第14-17页 |
| ·电弧与电弧离子镀 | 第14页 |
| ·电弧离子镀的发展 | 第14-15页 |
| ·电弧离子镀的优点 | 第15-16页 |
| ·电弧离子镀的不足 | 第16页 |
| ·电弧离子镀的应用 | 第16-17页 |
| ·银膜 | 第17-20页 |
| ·银膜的特性 | 第18-19页 |
| ·银膜的制备工艺和保护 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 3 实验设备及工艺流程 | 第21-30页 |
| ·实验的材料及处理 | 第21页 |
| ·薄膜的沉积设备 | 第21-23页 |
| ·电弧源制备银膜的原理 | 第23-25页 |
| ·电弧源制备薄膜的工艺流程 | 第25-26页 |
| ·薄膜的检测设备 | 第26-29页 |
| ·白光干涉仪 | 第26-28页 |
| ·分光光度计 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 4 电弧源制备银膜的工艺研究 | 第30-52页 |
| ·技术路线 | 第30-31页 |
| ·银膜的膜层设计 | 第31-34页 |
| ·电弧源制备银膜的工艺研究 | 第34-43页 |
| ·银靶起弧放电的研究 | 第34-35页 |
| ·银膜沉积的均匀性 | 第35-38页 |
| ·银膜沉积的稳定性 | 第38-39页 |
| ·靶电流对银膜沉积的影响 | 第39-41页 |
| ·基片偏压的研究 | 第41-43页 |
| ·电弧源制备银膜的保护 | 第43-51页 |
| ·银膜过渡层的探索 | 第43-46页 |
| ·电弧源制备银膜的附着力检测 | 第46-49页 |
| ·银膜保护层的探索 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 5 结论 | 第52-53页 |
| ·结论 | 第52页 |
| ·展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
