离子束溅射沉积制备TiO2薄膜及其光学特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·TiO_2薄膜的应用概述 | 第8页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第8-10页 |
| ·液相法(PVD) | 第8-9页 |
| ·物理气相沉积法 | 第9-10页 |
| ·离子束溅射沉积制备TiO_2薄膜 | 第10-12页 |
| ·离子束溅射沉积的发展 | 第10页 |
| ·离子束溅射沉积制备TiO_2薄膜的特点 | 第10-11页 |
| ·国内外发展现状 | 第11-12页 |
| ·选题依据与研究内容 | 第12-14页 |
| 第二章 离子束溅射沉积TiO_2薄膜的制备与表征 | 第14-21页 |
| ·实验设备 | 第14页 |
| ·离子束溅射沉积原理 | 第14-15页 |
| ·TiO_2膜的制备 | 第15-16页 |
| ·基片的预处理 | 第15页 |
| ·离子束溅射过程 | 第15-16页 |
| ·样品的表征方法 | 第16-21页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第17页 |
| ·紫外-可见光分光光度计(UV-Vis) | 第17-18页 |
| ·轮廓仪 | 第18-19页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第19-20页 |
| ·光致发光光谱仪(PL) | 第20-21页 |
| 第三章 离子束溅射TiO_2薄膜的结构特性研究 | 第21-35页 |
| ·薄膜的物性分析 | 第21-24页 |
| ·薄膜的组织结构 | 第21-22页 |
| ·薄膜的表面成分 | 第22-23页 |
| ·薄膜的表面结构 | 第23-24页 |
| ·溅射条件对薄膜生长特性的影响 | 第24-28页 |
| ·束流电压的影响 | 第24-25页 |
| ·溅射时间的影响 | 第25页 |
| ·氧气流量的影响 | 第25-26页 |
| ·气体流量比的影响 | 第26-28页 |
| ·溅射压强的影响 | 第28页 |
| ·溅射条件对薄膜应力的影响 | 第28-34页 |
| ·束流电压的影响 | 第29-30页 |
| ·溅射时间的影响 | 第30-31页 |
| ·氧气流量的影响 | 第31页 |
| ·气体流量比的影响 | 第31-32页 |
| ·溅射压强的影响 | 第32-34页 |
| ·本章小节 | 第34-35页 |
| 第四章 离子束溅射TiO_2薄膜的光学特性的研究 | 第35-45页 |
| ·溅射条件对薄膜透过率的影响 | 第35-39页 |
| ·束流电压的影响 | 第35-36页 |
| ·溅射时间的影响 | 第36页 |
| ·氧气流量的影响 | 第36-37页 |
| ·气体流量比的影响 | 第37-38页 |
| ·溅射压强的影响 | 第38-39页 |
| ·溅射条件对薄膜发光特性的影响 | 第39-43页 |
| ·束流电压的影响 | 第39-40页 |
| ·溅射时间的影响 | 第40-41页 |
| ·氧气流量的影响 | 第41页 |
| ·气体流量比的影响 | 第41-42页 |
| ·溅射压强的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小节 | 第43-45页 |
| 总结 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第50页 |
