| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| ·薄膜材料 | 第8页 |
| ·ZnO 薄膜 | 第8-11页 |
| ·ZnO 的晶格结构 | 第8-9页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第9-11页 |
| ·本文主要的研究内容及意义 | 第11-13页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备与性能测试 | 第13-25页 |
| ·ZnO 薄膜制备方法 | 第13-16页 |
| ·溅射技术 | 第13页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第13-14页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第14页 |
| ·分子束外延技术 | 第14-15页 |
| ·液相外延技术 | 第15页 |
| ·湿化学制备技术 | 第15-16页 |
| ·溶胶——凝胶技术特点 | 第16-17页 |
| ·溶胶——凝胶法原理 | 第16页 |
| ·溶胶——凝胶法基本过程 | 第16页 |
| ·溶胶-凝胶法优缺点 | 第16-17页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第17-22页 |
| ·制备 ZnO 薄膜的实验装置 | 第17-18页 |
| ·ZnO 薄膜制备过程 | 第18-20页 |
| ·影响 ZnO 薄膜质量的因素 | 第20-22页 |
| ·ZnO 薄膜的性能测试 | 第22-25页 |
| ·薄膜表面形貌测试 | 第22页 |
| ·薄膜物相结构测试 | 第22-23页 |
| ·X 射线光电子谱 | 第23页 |
| ·光致发光谱测试 | 第23-24页 |
| ·光透射率测试 | 第24-25页 |
| 第三章 前驱体溶液 pH 值对溶胶凝胶法制备氧化锌薄膜的影响 | 第25-33页 |
| ·实验 | 第25-26页 |
| ·实验试剂 | 第25页 |
| ·掺杂比例 | 第25-26页 |
| ·结果和讨论 | 第26-32页 |
| ·薄膜形貌分析 | 第26页 |
| ·薄膜结构分析 | 第26-29页 |
| ·样品的 XPS 分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜发光分析 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第四章 退火温度和涂膜层数对溶胶-凝胶法制备 ZnO 薄膜微结构及光学特性的影响 | 第33-43页 |
| ·实验 | 第33-34页 |
| ·实验试剂 | 第33页 |
| ·样品制备 | 第33-34页 |
| ·结果和讨论 | 第34-42页 |
| ·薄膜结构 | 第34-37页 |
| ·光学分析 | 第37-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 高浓度 Cu 掺杂对（Co, Cu）共掺杂薄膜发光特性的影响 | 第43-52页 |
| ·实验 | 第43页 |
| ·实验试剂 | 第43页 |
| ·掺杂比例 | 第43页 |
| ·结果和讨论 | 第43-51页 |
| ·样品的形貌分析 | 第43-45页 |
| ·样品的结构分析 | 第45-46页 |
| ·样品的 XPS 分析 | 第46-47页 |
| ·样品的发光分析 | 第47-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 掺 Co 浓度对（Co, Cu）共掺杂薄膜光磁特性的影响 | 第52-61页 |
| ·实验 | 第52-53页 |
| ·实验试剂 | 第52页 |
| ·掺杂比例 | 第52-53页 |
| ·结果和讨论 | 第53-60页 |
| ·样品的形貌分析 | 第53-54页 |
| ·样品的结构分析 | 第54-55页 |
| ·样品的 XPS 分析 | 第55-56页 |
| ·样品的发光分析 | 第56-59页 |
| ·样品的磁性分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第七章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
