摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 文献综述 | 第9-14页 |
·铁皮石斛的研究进展 | 第9页 |
·光强对石斛生长和代谢的影响 | 第9页 |
·硫化氢在植物中的生理作用 | 第9-10页 |
·抗氧化酶类与非生物胁迫 | 第10-11页 |
·强光胁迫对植物光合作用的研究 | 第11页 |
·DNA 甲基化研究进展 | 第11-14页 |
·DNA 甲基化在植物生长过程中的作用 | 第11-12页 |
·DNA 甲基化与环境胁迫的研究 | 第12-13页 |
·MSAP 技术的原理 | 第13页 |
·MSAP 技术的应用 | 第13-14页 |
2 引言 | 第14-16页 |
·研究目的与意义 | 第14页 |
·研究内容 | 第14-15页 |
·技术路线 | 第15-16页 |
3 材料与方法 | 第16-21页 |
·实验材料与处理 | 第16-17页 |
·抗氧化酶类的测定 | 第17页 |
·CAT 活性的测定 | 第17页 |
·SOD 活性的测定 | 第17页 |
·POD 活性的测定 | 第17页 |
·MDA 含量的测定 | 第17页 |
·叶绿素荧光参数的测定 | 第17-18页 |
·实验所用 MSAP 分析引物 | 第18页 |
·仪器和试剂 | 第18-19页 |
·主要仪器 | 第18-19页 |
·主要试剂 | 第19页 |
·MSAP 分析 | 第19-21页 |
·DNA 的提取及检测 | 第19页 |
·DNA 酶切、连接与 PCR 扩增 | 第19-20页 |
·聚丙烯酰胺凝胶电泳及银染 | 第20页 |
·MSAP 差异片段的回收与克隆测序 | 第20页 |
·差异片段比对分析 | 第20-21页 |
4 结果与分析 | 第21-34页 |
·强光胁迫下石斛生理指标的变化 | 第21-25页 |
·强光胁迫下各含 S2-或 Na+的化合物对石斛抗氧化酶活性的影响 | 第21-22页 |
·强光胁迫下各含 S2-或 Na+的化合物对石斛丙二醛含量的影响 | 第22-23页 |
·强光胁迫下外源 H_2S 对石斛抗氧化酶活性的影响 | 第23-24页 |
·强光胁迫下外源 H_2S 对石斛丙二醛含量的影响 | 第24-25页 |
·强光胁迫下石斛叶绿素荧光参数的变化 | 第25-28页 |
·强光胁迫过程中外源 H_2S 对铁皮石斛叶片潜在光化学效率的影响 | 第25-26页 |
·强光胁迫过程中外源 H_2S 对铁皮石斛荧光参数的影响 | 第26-28页 |
·强光胁迫下外源 H_2S 对石斛 DNA 甲基化的 MSAP 分析 | 第28-34页 |
·强光胁迫下外源 H_2S 对铁皮石斛 DNA 甲基化水平变化的影响 | 第28-29页 |
·强光胁迫下外源 H_2S 对铁皮石斛 DNA 甲基化状态变化的影响 | 第29-32页 |
·MSAP 差异表达片段的分析及功能预测 | 第32-34页 |
5 讨论 | 第34-36页 |
·硫化氢对石斛的生理调节作用 | 第34页 |
·强光胁迫下 H_2S 对石斛 DNA 甲基化的 MSAP 差异分析 | 第34-36页 |
6 结论 | 第36-38页 |
参考文献 | 第38-41页 |
附录 | 第41-46页 |
致谢 | 第46-47页 |
作者简介 | 第47页 |
在读期间发表的论文 | 第47页 |