| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·课题研究的意义 | 第11-12页 |
| ·氢敏材料及器件的研究现状 | 第12-20页 |
| ·电化学型氢敏材料与器件 | 第12-13页 |
| ·半导体型氢敏材料与器件 | 第13-15页 |
| ·金属氧化物型半导体氢敏材料与器件 | 第13-14页 |
| ·肖特基二极管型半导体氢敏材料与器件 | 第14-15页 |
| ·热电型氢敏材料与器件 | 第15-16页 |
| ·光学型氢敏材料与器件 | 第16-20页 |
| ·氢敏金属单质及其合金 | 第17-18页 |
| ·氢敏金属氧化物及其掺杂 | 第18-20页 |
| ·本文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 WO_3薄膜的晶体结构、性质及制备方法 | 第21-31页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·WO_3的晶体结构及性质 | 第21-24页 |
| ·WO_3的晶体结构 | 第21-22页 |
| ·WO_3薄膜的结构缺陷 | 第22-23页 |
| ·WO_3的基本性质 | 第23-24页 |
| ·WO_3薄膜的变色特性及应用 | 第24-27页 |
| ·WO_3的电致变色特性及其应用 | 第24-25页 |
| ·WO_3的气致变色特性及其应用 | 第25-26页 |
| ·WO_3的光致变色特性及其应用 | 第26-27页 |
| ·WO_3的热致变色特性及其应用 | 第27页 |
| ·WO_3薄膜的制备方法 | 第27-29页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第27-28页 |
| ·真空蒸发法 | 第28-29页 |
| ·溅射法 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 WO_3溅射薄膜的制备及性能测试 | 第31-48页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验部分 | 第31-34页 |
| ·主要实验材料和试剂 | 第31页 |
| ·主要实验仪器 | 第31-32页 |
| ·实验前的准备 | 第32页 |
| ·镀膜实验步骤 | 第32-34页 |
| ·薄膜的热处理 | 第34页 |
| ·WO_3薄膜的表征 | 第34-40页 |
| ·X射线衍射分析 | 第35-36页 |
| ·紫外-可见分光光谱分析(UV-Visible Spectroscopy,UV-Vis) | 第36-39页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第39-40页 |
| ·WO_3薄膜的氢气敏感性能测试 | 第40-46页 |
| ·WO_3薄膜的氢敏性能测试及结果分析 | 第41-43页 |
| ·WO_3膜厚对氢气敏感特性的影响 | 第43-44页 |
| ·Pd/WO_3薄膜对氢气敏感的重复性 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 WO_3溶胶-凝胶薄膜的制备及性能测试 | 第48-59页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验部分 | 第48-50页 |
| ·主要实验材料和试剂 | 第48页 |
| ·主要实验仪器 | 第48-49页 |
| ·实验前的准备 | 第49页 |
| ·离子交换法制备WO_3薄膜 | 第49-50页 |
| ·WO_3薄膜的表征 | 第50-52页 |
| ·X射线衍射分析 | 第51页 |
| ·紫外-可见分光光谱分析 | 第51-52页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第52页 |
| ·WO_3薄膜的氢气敏感性能测试 | 第52-57页 |
| ·WO_3薄膜的氢敏性能测试及结果分析 | 第53-55页 |
| ·WO_3薄膜对氢气敏感的重复性 | 第55-56页 |
| ·Pt/WO_3薄膜在不同氢气浓度下的气敏性 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 WO_3氢敏薄膜的性能比较及机理分析 | 第59-66页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·WO_3基薄膜样品的氢敏性能比较 | 第59-61页 |
| ·WO_3薄膜的氢敏机理 | 第61-62页 |
| ·WO_3薄膜的激光拉曼图谱分析 | 第62-63页 |
| ·WO_3薄膜的掺杂改性 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| ·主要结论 | 第66-67页 |
| ·课题展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |