摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
·高分子材料及其表面改性 | 第9页 |
·亲水性无机薄膜 | 第9-11页 |
·亲水性无机薄膜的研究现状 | 第9-10页 |
·纳米 SiO_2薄膜的制备方法 | 第10页 |
·溶胶凝胶法制备 SiO_2球的原理 | 第10-11页 |
·传统有机物薄膜改性 | 第11-17页 |
·传统有机物薄膜改性的方法 | 第11-12页 |
·等离子体法的基本理论 | 第12-14页 |
·等离子体法对高分子材料的表面改性 | 第14-17页 |
·等离子体处理的研究进展 | 第17页 |
·本研究的意义与研究内容 | 第17-19页 |
·研究的意义 | 第17页 |
·研究内容 | 第17-19页 |
第二章 无机纳米二氧化硅薄膜的制备和表征 | 第19-29页 |
·实验部分 | 第19-20页 |
·主要试剂和仪器设备 | 第19页 |
·实验内容 | 第19-20页 |
·表征方法及仪器 | 第20页 |
·结果与分析 | 第20-27页 |
·经纳米 SiO_2改性的 PE 薄膜的表征及结果分析 | 第20-23页 |
·TEOS 量对 SiO_2溶胶粒径的影响 | 第23-25页 |
·氨水量对 SiO_2溶胶粒径的影响 | 第25-27页 |
·表面活性剂浓度对 SiO_2溶胶/表面活性剂体系稳定性的影响 | 第27页 |
·有机胶浓度对 SiO_2溶胶/表面活性剂/有机胶体系稳定性的影响 | 第27页 |
·小结 | 第27-29页 |
第三章 等离子体引发接枝改性 | 第29-49页 |
·实验试剂与仪器设备 | 第29-32页 |
·试剂 | 第29页 |
·主要仪器与设备 | 第29页 |
·等离子体设备介绍 | 第29-32页 |
·等离子体设备的调试 | 第32页 |
·等离子处理的试验方法 | 第32页 |
·PE 薄膜样品的前处理 | 第32页 |
·等离子体引发丙烯酸单体接枝 | 第32页 |
·薄膜样品后处理 | 第32页 |
·实验内容 | 第32-33页 |
·常压下 Ar/O_2等离子体引发聚乙烯薄膜接枝丙烯酸样品 | 第32-33页 |
·常压下空气等离子体引发聚乙烯薄膜接枝丙烯酸样品 | 第33页 |
·表征方法及仪器 | 第33-34页 |
·接触角 | 第33-34页 |
·静态接触角仪 | 第34页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第34页 |
·衰减全反射傅立叶变换红外光谱 | 第34页 |
·结果与讨论 | 第34-47页 |
·等离子体放电装置的改进 | 第34-35页 |
·常压下 Ar/O_2等离子体引发聚乙烯薄膜接枝丙烯酸的样品 | 第35-42页 |
·常压下空气等离子体引发聚乙烯薄膜接枝丙烯酸的样品 | 第42-47页 |
·小结 | 第47-49页 |
第四章 研究展望 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-56页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第56-57页 |
致谢 | 第57页 |