硅碳氮薄膜的结构及光学特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·SiCN结构和特性 | 第13-17页 |
| ·SiCN理论模型 | 第13页 |
| ·SiCN薄膜的结构和成键特性 | 第13-17页 |
| ·SiCN薄膜研究现状 | 第17-19页 |
| ·薄膜制备方法 | 第17页 |
| ·SiCN薄膜结构和光学特性研究现状 | 第17-18页 |
| ·SiCN薄膜研究存在的问题 | 第18-19页 |
| ·本文主要研究内容 | 第19-20页 |
| ·论文主要研究方法 | 第20-22页 |
| 第二章 薄膜溅射原理、工艺与表征方法 | 第22-36页 |
| ·磁控溅射原理与溅射设备 | 第22-25页 |
| ·磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·溅射参数 | 第23页 |
| ·溅射设备 | 第23-24页 |
| ·溅射工艺参数 | 第24-25页 |
| ·SiCN薄膜制备工艺 | 第25-28页 |
| ·衬底选择与清洗 | 第25-26页 |
| ·薄膜溅射 | 第26-27页 |
| ·薄膜热处理 | 第27-28页 |
| ·薄膜结构与性能表征方法 | 第28-34页 |
| ·薄膜厚度 | 第28-29页 |
| ·表面形貌 | 第29-31页 |
| ·薄膜成分及元素分布 | 第31-32页 |
| ·薄膜组织结构 | 第32-33页 |
| ·薄膜透光率和光致发光 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 SiCN结构和光学特性的理论计算 | 第36-56页 |
| ·计算理论 | 第36-41页 |
| ·多粒子体系的薛定谔方程 | 第36-38页 |
| ·密度泛函 | 第38-40页 |
| ·交换关联函数 | 第40-41页 |
| ·赝势平面波方法 | 第41页 |
| ·能带结构和态密度 | 第41-44页 |
| ·能带结构 | 第41-43页 |
| ·态密度 | 第43-44页 |
| ·SiCN的电子结构和光学特性计算 | 第44-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 SiCN薄膜制备及结构、光学特性分析 | 第56-79页 |
| ·溅射功率与微观结构及光学特性的关系 | 第56-63页 |
| ·溅射功率与沉积速率的关系 | 第56页 |
| ·溅射功率与薄膜成分的关系 | 第56-58页 |
| ·溅射功率与薄膜表面形貌的关系 | 第58-59页 |
| ·溅射功率与薄膜结构的关系 | 第59-61页 |
| ·溅射功率与薄膜光学特性的关系 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| ·C_2H_2流速与微观结构及光学特性的关系 | 第63-71页 |
| ·C_2H_2流速与沉积速率的关系 | 第63-64页 |
| ·C_2H_2流速与薄膜成分的关系 | 第64页 |
| ·C_2H_2流速与薄膜表面形貌的关系 | 第64-66页 |
| ·C_2H_2流速与薄膜结构的关系 | 第66-70页 |
| ·C_2H_2流速与薄膜光学特性的关系 | 第70页 |
| ·小结 | 第70-71页 |
| ·N_2/Ar流速比与微观结构及光学特性的关系 | 第71-77页 |
| ·N_2/Ar流速比与沉积速率的关系 | 第71页 |
| ·N_2/Ar流速比与薄膜成分的关系 | 第71-72页 |
| ·N_2/Ar流速比与薄膜表面形貌的关系 | 第72-75页 |
| ·N_2/Ar流速比与薄膜结构的关系 | 第75-77页 |
| ·N_2/Ar流速比与薄膜光学特性的关系 | 第77页 |
| ·小结 | 第77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 SiCN薄膜的发光特性研究 | 第79-86页 |
| ·SiCN薄膜晶体结构 | 第79页 |
| ·SiCN薄膜成键结构 | 第79-83页 |
| ·SiCN薄膜的发光 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第六章 结论与展望 | 第86-89页 |
| ·结论 | 第86-87页 |
| ·展望 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-100页 |
| 攻读学位期间的主要研究成果 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102页 |
