摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-22页 |
·纳米材料概述 | 第9-12页 |
·纳米材料的定义及性质 | 第9页 |
·纳米材料的分类 | 第9-10页 |
·纳米材料的应用 | 第10-12页 |
·WO_3概述 | 第12-19页 |
·WO_3的物理与化学性质 | 第12-13页 |
·WO_3的晶体结构 | 第13-14页 |
·WO_3的应用 | 第14-15页 |
·WO_3的常见制备方法 | 第15-18页 |
·WO_3气敏传感器 | 第18-19页 |
·选题的目的及意义 | 第19-20页 |
·本课题研究内容及创新点 | 第20-22页 |
·研究内容 | 第20页 |
·本文创新点 | 第20-22页 |
2 实验部分 | 第22-29页 |
·水热法及其制备原理 | 第22页 |
·实验方案设计 | 第22-23页 |
·实验材料及设备 | 第23-24页 |
·纳米三氧化钨的表征与气敏性能测试 | 第24-29页 |
·物相分析与形貌观察 | 第24页 |
·气敏性能测试 | 第24-27页 |
·气敏性能特征参数 | 第27-29页 |
3 不同形貌单斜相 WO_3的制备及气敏性能研究 | 第29-39页 |
·引言 | 第29页 |
·不同形貌 WO_3纳米材料制备 | 第29-30页 |
·实验结果与讨论 | 第30-38页 |
·X 射线衍射(XRD)与形貌分析 | 第30-33页 |
·WO_3·H_2O 的烧结 | 第33-35页 |
·气敏性能测试 | 第35-36页 |
·气敏机理研究 | 第36-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
4 球状 WO_3的制备及其气敏性能研究 | 第39-50页 |
·引言 | 第39页 |
·制备工艺 | 第39-41页 |
·纳米 WO_3的制备 | 第39-41页 |
·实验结果与讨论 | 第41-49页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第41页 |
·形貌分析 | 第41-42页 |
·形成机理分析 | 第42-45页 |
·前驱体的烧结 | 第45-47页 |
·气敏性能测试对比 | 第47-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
5 一维纳米 WO_3的制备及气敏性能 | 第50-60页 |
·引言 | 第50页 |
·制备工艺 | 第50-52页 |
·纳米 WO_3的制备 | 第50-51页 |
·制得样品的表征与气敏元件制备 | 第51-52页 |
·实验结果与讨论 | 第52-59页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第52页 |
·形貌分析 | 第52-55页 |
·一维纳米 WO_3生长机理分析 | 第55-57页 |
·气敏性能测试对比 | 第57-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
6 全文总结及后续展望 | 第60-62页 |
·本文主要结论 | 第60-61页 |
·后续工作展望 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
附录 | 第69页 |
A. 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第69页 |
B. 作者在攻读硕士学位期间取得的其他科研成果目录 | 第69页 |