化学修饰石墨烯的分离与评价
摘要 | 第1-10页 |
Abstract | 第10-24页 |
第一章 绪论 | 第24-56页 |
·前言 | 第24-26页 |
·石墨烯的命名 | 第26-27页 |
·朴素石墨烯的结构、性质及制备 | 第27-33页 |
·朴素石墨烯的结构 | 第27-28页 |
·朴素石墨烯的性质 | 第28-29页 |
·朴素石墨烯的制备 | 第29-33页 |
·微机械剥离法 | 第30页 |
·化学气相沉积法 | 第30-31页 |
·外延生长法 | 第31页 |
·液相剥离法 | 第31-32页 |
·其它方法 | 第32-33页 |
·氧化石墨烯的结构、性质、制备及还原 | 第33-46页 |
·氧化石墨烯的结构 | 第33-36页 |
·氧化石墨烯的性质 | 第36-37页 |
·氧化石墨烯的制备 | 第37页 |
·氧化石墨烯的还原 | 第37-46页 |
·使用还原剂法 | 第39-43页 |
·改变还原环境法 | 第43-45页 |
·其它方法 | 第45-46页 |
·纳米材料分离技术 | 第46-52页 |
·纳米分离技术 | 第47-49页 |
·电泳法 | 第47页 |
·排阻色谱法 | 第47-48页 |
·膜分离法 | 第48页 |
·磁分离法 | 第48-49页 |
·密度梯度超离心分离(DGU) | 第49-52页 |
·密度梯度介质 | 第49-50页 |
·速率区带分离 | 第50-51页 |
·等密度分离 | 第51-52页 |
·石墨烯的应用 | 第52-53页 |
·透明导电薄膜 | 第52页 |
·纳米电子器件 | 第52页 |
·石墨烯纳米复合材料 | 第52-53页 |
·生物医药领域 | 第53页 |
·本课题的立题依据和主要研究内容 | 第53-56页 |
·论文选题的目的及意义 | 第54-55页 |
·本课题的主要研究内容 | 第55-56页 |
第二章 实验与测试分析方法 | 第56-63页 |
·实验药品及其主要仪器设备 | 第56-58页 |
·实验药品 | 第56-57页 |
·实验仪器 | 第57-58页 |
·实验方法 | 第58-59页 |
·氧化石墨烯的制备 | 第58-59页 |
·密度梯度溶液的配制 | 第59页 |
·石墨烯的表征 | 第59-63页 |
·原子力显微镜 | 第59-60页 |
·拉曼光谱 | 第60-62页 |
·X-射线光电子能谱仪 | 第62-63页 |
第三章 化学修饰石墨烯的分离 | 第63-96页 |
·引言 | 第63-64页 |
·实验部分 | 第64-68页 |
·实验方案 | 第64页 |
·氧化石墨烯的制备 | 第64-65页 |
·化学还原石墨烯的制备 | 第65页 |
·分离条件优化 | 第65-68页 |
·化学还原石墨烯的分离(15 min) | 第68-73页 |
·氧化石墨烯的分离(15 min) | 第73-76页 |
·氧化石墨烯的分离(5 min) | 第76-88页 |
·形貌分析 | 第77-81页 |
·光学性能 | 第81-84页 |
·UV-vis分析 | 第81-83页 |
·荧光分析 | 第83-84页 |
·结构分析 | 第84-88页 |
·XPS分析 | 第84-85页 |
·Raman分析 | 第85-86页 |
·FT-IR分析 | 第86-88页 |
·分离机理分析 | 第88-95页 |
·分离理论及CMG模型 | 第88-90页 |
·等密度分离 | 第90-92页 |
·单层梯度分离 | 第92-95页 |
·小结 | 第95-96页 |
第四章 氧化石墨烯还原评价标准 | 第96-110页 |
·引言 | 第96-97页 |
·实验部分 | 第97-99页 |
·实验方案 | 第97页 |
·氧化石墨烯的制备 | 第97-98页 |
·氧化石墨烯的还原 | 第98-99页 |
·石墨烯薄膜的制备 | 第99页 |
·结果与讨论 | 第99-109页 |
·分散度 | 第99-103页 |
·分散性对照实验 | 第99-100页 |
·AFM分析 | 第100-103页 |
·还原程度 | 第103-106页 |
·紫外可见吸收光谱分析 | 第103-104页 |
·XPS分析 | 第104-106页 |
·缺陷修复程度 | 第106-108页 |
·导电性 | 第108-109页 |
·小结 | 第109-110页 |
第五章 结论 | 第110-112页 |
本论文的创新点 | 第112-113页 |
参考文献 | 第113-131页 |
致谢 | 第131-132页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第132-133页 |
作者和导师简介 | 第133-134页 |
北京化工大学 | 第134-135页 |