多晶硅薄膜籽晶层制备及性质分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| ·太阳电池的研究背景及现状 | 第10-19页 |
| ·化石能源与可再生能源 | 第10-11页 |
| ·太阳电池的发展及分类 | 第11-12页 |
| ·晶体硅太阳电池 | 第12-15页 |
| ·薄膜太阳电池 | 第15-19页 |
| ·多晶硅薄膜太阳电池 | 第19-23页 |
| ·发展多晶硅薄膜太阳电池的优势及意义 | 第19-20页 |
| ·多晶硅薄膜太阳电池的结构与相关制备工艺 | 第20-22页 |
| ·多晶硅薄膜太阳电池关键问题分析 | 第22-23页 |
| ·多晶硅薄膜籽晶层的制备方法 | 第23-27页 |
| ·直接制备法 | 第24-25页 |
| ·间接制备法 | 第25-27页 |
| ·本文主要研究内容及安排 | 第27-28页 |
| 第2章 多晶硅薄膜籽晶层制备系统与表征技术 | 第28-36页 |
| ·多晶硅薄膜籽晶层制备系统 | 第28-32页 |
| ·磁控溅射系统 | 第28-30页 |
| ·快速热退火(RTA)系统 | 第30-32页 |
| ·多晶硅薄膜籽晶层表征技术 | 第32-35页 |
| ·X射线衍射 | 第32-33页 |
| ·拉曼散射光谱分析 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 石墨衬底多晶硅薄膜籽晶层的制备 | 第36-42页 |
| ·石墨衬底的选择和处理 | 第36-38页 |
| ·石墨的结构与性质 | 第36-37页 |
| ·石墨衬底的处理 | 第37-38页 |
| ·石墨衬底多晶硅薄膜籽晶层的制备 | 第38-41页 |
| ·磁控溅射制备过程 | 第38-39页 |
| ·快速热退火晶化过程 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 制备工艺对石墨衬底多晶硅薄膜籽晶层的影响 | 第42-50页 |
| ·衬底温度对多晶硅薄膜籽晶层的影响 | 第42-47页 |
| ·多晶硅薄膜籽晶层择优取向性优化 | 第42-44页 |
| ·多晶硅薄膜籽晶层结晶度优化 | 第44-46页 |
| ·多晶硅薄膜籽晶层的择优取向和结晶度的理论诠释 | 第46-47页 |
| ·快速热退火对多晶硅薄膜籽晶层的影响 | 第47-48页 |
| ·退火温度对多晶硅薄膜籽晶层的影响 | 第47-48页 |
| ·退火时间对多晶硅薄膜籽晶层的影响 | 第48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 结论与展望 | 第50-51页 |
| ·本文的主要结论 | 第50页 |
| ·展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
