渗碳、硼对TC4合金组织与性能影响的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·钛及钛合金 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·钛合金的性质 | 第9-11页 |
| ·钛合金的分类 | 第11-12页 |
| ·钛合金的研究新进展 | 第12-13页 |
| ·TC4 钛合金 | 第13-14页 |
| ·钛合金的表面处理 | 第14-16页 |
| ·渗元素表面热处理 | 第14页 |
| ·热喷涂技术 | 第14-15页 |
| ·电火花沉积技术 | 第15页 |
| ·微弧氧化技术 | 第15页 |
| ·离子注入技术 | 第15页 |
| ·激光表面合金化技术 | 第15-16页 |
| ·溅射沉积技术 | 第16页 |
| ·钛合金渗碳技术的概述 | 第16-18页 |
| ·传统渗碳技术 | 第16页 |
| ·钛合金渗碳的方法 | 第16-18页 |
| ·钛合金表面的固体渗碳理论 | 第18页 |
| ·钛合金渗硼技术 | 第18-20页 |
| ·渗硼技术 | 第18页 |
| ·钛及钛合金渗硼的方法 | 第18-19页 |
| ·钛合金表面的固体渗硼理论 | 第19-20页 |
| ·选题的目的与意义 | 第20页 |
| ·本文主要研究的内容 | 第20-22页 |
| 2 实验内容与方法 | 第22-25页 |
| ·实验材料及设备 | 第22页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·实验设备 | 第22页 |
| ·实验内容 | 第22-25页 |
| ·TC4 合金表面渗层的制备工艺 | 第22-23页 |
| ·固体渗碳工艺 | 第23页 |
| ·固体渗硼工艺 | 第23-24页 |
| ·固体渗碳化硼工艺 | 第24-25页 |
| 3 实验结果与分析 | 第25-36页 |
| ·TC4 合金渗层的显微组织分析 | 第25-27页 |
| ·固体渗碳渗层显微组织 | 第25页 |
| ·固体渗硼渗层显微组织 | 第25-26页 |
| ·固体渗碳化硼渗层显微组织 | 第26-27页 |
| ·TC4 合金的渗层成分分析 | 第27-31页 |
| ·渗碳渗层成分分析 | 第27-28页 |
| ·渗硼渗层成分分析 | 第28-29页 |
| ·渗碳化硼渗层成分分析 | 第29-31页 |
| ·TC4 合金渗层 XRD 分析 | 第31-33页 |
| ·渗碳渗层的 XRD 分析 | 第31页 |
| ·渗硼渗层的 XRD 分析 | 第31-32页 |
| ·渗碳化硼渗层的 XRD 分析 | 第32-33页 |
| ·TC4 合金渗层截面显微硬度 | 第33-36页 |
| ·渗碳层显微硬度 | 第33-34页 |
| ·渗硼层显微硬度 | 第34页 |
| ·渗碳化硼层显微硬度 | 第34-36页 |
| 4 TC4 合金渗层硬化与硬化相形成机理分析 | 第36-49页 |
| ·TC4 合金渗层强化相的价电子结构计算 | 第36-43页 |
| ·TiB 相的价电子结构计算 | 第36-40页 |
| ·TiB_2相的价电子结构计算 | 第40-42页 |
| ·TiC 相的价电子结构计算 | 第42-43页 |
| ·TC4 合金基体的价电子结构计算 | 第43-47页 |
| ·相的价电子结构计算 | 第43-45页 |
| ·相的价电子结构计算 | 第45-47页 |
| ·TC4 合金渗层强化相与渗层硬度关系的分析 | 第47页 |
| ·TC4 合金渗层硬化相形成机理分析 | 第47-48页 |
| ·TC4 合金基体相与硬化相稳定性的分析 | 第48-49页 |
| 5 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
