摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-19页 |
·储氢合金发展的背景 | 第10-11页 |
·储氢合金的分类 | 第11-14页 |
·镁系储氢合金(A2B 型) | 第11-12页 |
·钛系储氢合金(AB 型) | 第12页 |
·Laves 相储氢合金(AB2型) | 第12-13页 |
·稀土系储氢合金 | 第13-14页 |
·La-Mg-Ni 系储氢合金的储氢原理 | 第14-16页 |
·储氢合金膜常用制备方法 | 第16-17页 |
·储氢合金在化学电源中的应用 | 第17页 |
·研究工作意义和内容 | 第17-19页 |
第二章 实验部分 | 第19-25页 |
·实验药品及仪器 | 第19-20页 |
·水溶液电沉积稀土合金的镀液组成及工艺条件 | 第20-21页 |
·实验方法 | 第21-22页 |
·基础镀液的配置 | 第21页 |
·工艺流程 | 第21-22页 |
·水溶液中电沉积稀土合金 | 第22页 |
·合金膜的结构及电化学测试 | 第22-23页 |
·实验所制备合金膜的表征 | 第22页 |
·合金膜的测试 | 第22-23页 |
·镀液性能 | 第23页 |
·工艺参数的影响 | 第23-25页 |
第三章 水溶液中电沉积 La-Mg-Ni 合金膜 | 第25-42页 |
·Cu 电极在基础镀液中分别添加 La、Mg、Ni 的循环伏安曲线 | 第25-28页 |
·电流密度对合金膜性能的影响 | 第28-36页 |
·合金膜的表面形貌及结构 | 第28-32页 |
·合金膜的 Tafel 极化曲线 | 第32-33页 |
·合金膜的交流阻抗(EIS) | 第33-35页 |
·电流密度对合金膜沉积速率的影响 | 第35-36页 |
·电沉积温度对合金膜性能的影响 | 第36-42页 |
·合金膜的表面形貌及结构 | 第36-38页 |
·合金膜的 Tafel 极化曲线 | 第38-39页 |
·合金膜的交流阻抗 | 第39-41页 |
·电沉积温度对合金膜沉积速率的影响 | 第41-42页 |
第四章 组成成分对合金膜性能的影响 | 第42-68页 |
·基础配位剂对合金膜性能的影响 | 第42-54页 |
·氯化铵对合金膜性能的影响 | 第42-48页 |
·柠檬酸对合金膜性能的影响 | 第48-54页 |
·单独添加次亚磷酸钠和邻磺酰苯酰亚胺钠对合金膜性能的影响 | 第54-60页 |
·Cu 电极在镀液中的阴极极化曲线 | 第54-55页 |
·合金膜的表面形貌及结构 | 第55-58页 |
·合金膜的 Tafel 极化曲线 | 第58-59页 |
·合金膜的交流阻抗 | 第59-60页 |
·合金膜的沉积速率 | 第60页 |
·同时添加次亚磷酸钠和邻磺酰苯酰亚胺钠对合金模性能的影响 | 第60-68页 |
·Cu 电极在镀液中的阴极极化曲线 | 第61页 |
·合金膜的表面形貌及结构 | 第61-64页 |
·合金膜的 Tafel 极化曲线 | 第64-65页 |
·合金膜的交流阻抗 | 第65-66页 |
·合金膜的沉积速率 | 第66-68页 |
第五章 结论 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-73页 |
在学研究成果 | 第73-74页 |
致谢 | 第74页 |