| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 引言 | 第10页 |
| ·改良西门子法制备多晶硅 | 第10-14页 |
| ·三氯氢硅 | 第14-15页 |
| ·SiHCl_3的物化性质 | 第14-15页 |
| ·SiHCl_3的用途 | 第15页 |
| ·SiHCl_3制备技术概况 | 第15-21页 |
| ·四氯化硅为原料的还原法生产三氯氢硅 | 第15-16页 |
| ·硅氯氢化法生产三氯氢硅原理及工业生产流程 | 第16-19页 |
| ·硅氯氢化法发展历程 | 第19-20页 |
| ·国内外现状 | 第20-21页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第21页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第21-22页 |
| 第二章 复杂化学平衡方法及FactSage软件 | 第22-31页 |
| ·复杂化学平衡体系研究概况 | 第23-24页 |
| ·化学平衡体系计算方法研究进展 | 第24-26页 |
| ·热力学数据的来源、评价及选取 | 第26-28页 |
| ·热力学数据的来源 | 第26-27页 |
| ·热力学数据的评价 | 第27页 |
| ·热力学数据的选取 | 第27-28页 |
| ·FactSage软件介绍 | 第28-29页 |
| ·三氯氢硅合成体系分析 | 第29-31页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第31-66页 |
| ·计算结果 | 第31-36页 |
| ·△_rG_m~θ-T图和K_a~θ-T图 | 第36-40页 |
| ·气相平衡组成分布 | 第40-44页 |
| ·共平衡点变化分析 | 第44-49页 |
| ·硅粉转化率分析 | 第49-51页 |
| ·SiHCl_3转化率分析 | 第51-55页 |
| ·SiHCl_3产率分析 | 第55-64页 |
| ·温度对SiHCl_3产率的影响 | 第55-58页 |
| ·压力对SiHCl_3产率的影响 | 第58-59页 |
| ·进料比n_(HCl)~O/n_(Si)_~O对SiHCl_3产率的影响 | 第59-64页 |
| ·实际SiHCl_3合成温度、压力和进料比n_(HCl)~O/n_(Si)~O选择 | 第64-66页 |
| ·温度选择 | 第64页 |
| ·压力选择 | 第64-65页 |
| ·进料比n_(HCl)~O/n_(Si)~O选择 | 第65-66页 |
| 第四章 改进工艺的热力学研究 | 第66-83页 |
| ·SiHCl_3加压合成分析 | 第66-70页 |
| ·加压合成硅粉转化率分析 | 第66-67页 |
| ·加压合成SiHCl_3转化率分析 | 第67-68页 |
| ·加压合成SiHCl_3产率分析 | 第68-70页 |
| ·加H_2稀释分析 | 第70-77页 |
| ·加H_2稀释对硅粉转化率影响 | 第71-72页 |
| ·加H_2稀释对SiHCl_3转化率的影响 | 第72-73页 |
| ·加H_2稀释对平衡体系中SiHCl_3摩尔分数的影响 | 第73-75页 |
| ·加H_2稀释对SiHCl_3产率影响 | 第75-77页 |
| ·加SiCl_4工艺分析 | 第77-83页 |
| ·加SiCl_4工艺对硅粉转化率的影响 | 第77-79页 |
| ·加SiCl_4工艺对平衡体系中SiHCl_3摩尔分数的影响 | 第79-80页 |
| ·加SiCl_4工艺SiHCl_3产率分析 | 第80-83页 |
| 第五章 结论与展望 | 第83-85页 |
| ·主要结论 | 第83页 |
| ·展望 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第91页 |
