| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACTS | 第5-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-11页 |
| ·研究背景 | 第7-8页 |
| ·研究的必要性 | 第8-9页 |
| ·论文的组成内容 | 第9-11页 |
| 第二章 多孔硅的制备及光伏特性的研究 | 第11-28页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第11-15页 |
| ·多孔硅的分类 | 第15-16页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第16-18页 |
| ·多孔硅的微观结构及制备条件对其的影响 | 第18-20页 |
| ·多孔硅的光伏特性 | 第20-27页 |
| ·表面光电压的产生原理 | 第20-23页 |
| ·表面光电压谱的测量原理及方法 | 第23-24页 |
| ·多孔硅光电特性的表面光电压谱表征 | 第24-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 TIO2/N-SI/P-SI、N-PS /P-PS/ SI 的光伏特性研究 | 第28-38页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·纳米二氧化钛薄膜的磁控溅射制备 | 第29-33页 |
| ·磁控溅射的发展 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射制备二氧化钛薄膜 | 第31-33页 |
| ·TIO2/N-SI/P-SI、N-PS /P-PS/ SI 的光伏特性 | 第33-37页 |
| ·实验 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 离子注入多孔硅光伏效应的研究 | 第38-50页 |
| ·引言 | 第38-40页 |
| ·离子注入技术 | 第40-44页 |
| ·基本概念 | 第40页 |
| ·离子注入技术的特点 | 第40-42页 |
| ·离子注入工艺 | 第42-44页 |
| ·离子注入硅片制备多孔硅的光伏效应 | 第44-48页 |
| ·实验 | 第44-45页 |
| ·实验的结果和讨论 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 总结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士期间发表和完成的研究论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |