| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-17页 |
| 第1章 绪论 | 第17-36页 |
| ·钛合金的腐蚀 | 第17-27页 |
| ·钛合金的腐蚀特点 | 第18-25页 |
| ·钛合金耐腐蚀处理技术 | 第25-27页 |
| ·钛合金微等离子体氧化技术 | 第27-34页 |
| ·微等离子体氧化特点 | 第28-29页 |
| ·微等离子体氧化过程 | 第29-31页 |
| ·微等离子体氧化电源 | 第31页 |
| ·钛合金微等离子体氧化电解液 | 第31-32页 |
| ·钛合金微等离子体氧化研究现状 | 第32-34页 |
| ·本课题的来源、研究目的和主要研究内容 | 第34-36页 |
| 第2章 实验材料与实验方法 | 第36-45页 |
| ·实验材料及试件处理方法 | 第36-37页 |
| ·实验材料 | 第36页 |
| ·实验试剂 | 第36-37页 |
| ·试件前处理方法 | 第37页 |
| ·实验装置 | 第37-39页 |
| ·微等离子体氧化双相脉冲电源 | 第37页 |
| ·微等离子体氧化装置 | 第37-39页 |
| ·测试方法 | 第39-45页 |
| ·微等离子体氧化陶瓷膜层相组成和结构分析 | 第39-40页 |
| ·陶瓷膜层的电化学分析测试 | 第40-41页 |
| ·陶瓷膜酸腐蚀测试 | 第41-42页 |
| ·接触腐蚀测试 | 第42-43页 |
| ·盐雾腐蚀测试 | 第43页 |
| ·高温氧化测试 | 第43-44页 |
| ·电解液分析 | 第44-45页 |
| 第3章 锆酸盐体系耐蚀性膜层制备与表征 | 第45-66页 |
| ·K_2ZrF_6-H_3PO_4 溶液中陶瓷膜的制备与表征 | 第45-50页 |
| ·槽压－时间曲线 | 第45页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第45-47页 |
| ·陶瓷膜截面形貌与元素分布 | 第47-48页 |
| ·陶瓷膜表面形貌 | 第48页 |
| ·陶瓷膜表层XRF分析 | 第48-49页 |
| ·陶瓷膜层生长特点 | 第49-50页 |
| ·K_2ZrF_6-NaH_2PO_4 溶液中陶瓷膜的制备与表征 | 第50-53页 |
| ·槽压－时间曲线 | 第50页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第50-53页 |
| ·陶瓷膜的截面和表面形貌 | 第53页 |
| ·K_2ZrF_6-NaH_2PO_2 溶液中陶瓷膜的制备与表征 | 第53-57页 |
| ·槽压－时间曲线 | 第53-54页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第54-56页 |
| ·陶瓷膜的截面和表面形貌 | 第56-57页 |
| ·耐蚀性陶瓷膜制备工艺优化 | 第57-65页 |
| ·不同电解液配方制备膜层的耐腐蚀性能 | 第57-58页 |
| ·K_2ZrF_6-H_3PO_4 溶液中制备的膜层耐腐蚀性能 | 第58-64页 |
| ·制备工艺优化 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第4章 铝酸盐体系耐蚀性膜层制备与表征 | 第66-100页 |
| ·陶瓷膜层的制备与表征 | 第66-70页 |
| ·陶瓷膜的相组成 | 第66-68页 |
| ·陶瓷膜的截面形貌与EPMA分析 | 第68-70页 |
| ·陶瓷膜表层XRF分析 | 第70页 |
| ·工艺参数对陶瓷膜结构和形貌的影响 | 第70-84页 |
| ·电流密度对陶瓷膜组成与结构的影响 | 第70-73页 |
| ·电源频率对陶瓷膜组成与结构的影响 | 第73-75页 |
| ·占空比对陶瓷膜组成与结构的影响 | 第75-78页 |
| ·反应时间对陶瓷膜组成与结构的影响 | 第78-84页 |
| ·耐蚀性陶瓷膜制备工艺优化 | 第84-92页 |
| ·电流密度对耐蚀性的影响 | 第84-87页 |
| ·电源频率对耐蚀性的影响 | 第87页 |
| ·占空比对耐蚀性的影响 | 第87-90页 |
| ·反应时间对耐蚀性的影响 | 第90-91页 |
| ·制备工艺优化 | 第91-92页 |
| ·电解液体系对膜层生长和膜层结构影响 | 第92-99页 |
| ·基体钛在电解液中的溶解 | 第92-96页 |
| ·电解液中主要元素的变化规律 | 第96-98页 |
| ·电解液体系与膜层设计 | 第98-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 第5章 陶瓷膜层的电化学阻抗谱研究 | 第100-115页 |
| ·不同时间的陶瓷膜层的EIS测试研究 | 第102-107页 |
| ·氧化时间对陶瓷膜层的EIS谱图的影响 | 第102页 |
| ·陶瓷膜层的EIS等效电路 | 第102-104页 |
| ·陶瓷膜层的EIS解析与拟合 | 第104-106页 |
| ·Q-n与分型维数的关系 | 第106-107页 |
| ·电荷转移电阻Rt与膜层耐腐蚀性判据 | 第107页 |
| ·电流密度和频率对陶瓷膜的EIS谱图的影响 | 第107-111页 |
| ·不同电流密度下膜层的EIS谱图 | 第108-109页 |
| ·不同电源频率下膜层的EIS图谱 | 第109-111页 |
| ·钛合金基体的EIS测试研究 | 第111-114页 |
| ·钛合金基体的EIS谱图 | 第111-112页 |
| ·钛合金基体的EIS等效电路图 | 第112页 |
| ·钛合金基体的EIS解析与拟合 | 第112-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 第6章 膜层耐腐蚀性能与耐腐蚀机制研究 | 第115-138页 |
| ·陶瓷膜层试样的酸腐蚀 | 第115-118页 |
| ·在三种强酸中膜层的腐蚀失重规律 | 第115-117页 |
| ·膜层平均腐蚀速率 | 第117页 |
| ·膜层在酸溶液中耐腐蚀机制分析 | 第117-118页 |
| ·陶瓷膜层的接触腐蚀 | 第118-130页 |
| ·膜层与LY12 铝合金的接触腐蚀 | 第118-120页 |
| ·膜层与H62 黄铜的接触腐蚀 | 第120-121页 |
| ·接触腐蚀机制分析 | 第121-127页 |
| ·膜层的稳定性 | 第127-130页 |
| ·陶瓷膜层的高温氧化 | 第130-137页 |
| ·不同温度下的膜层增重 | 第130-131页 |
| ·膜层高温氧化前后相组成变化 | 第131-133页 |
| ·膜层高温氧化后表面形貌变化 | 第133页 |
| ·膜层增重曲线 | 第133页 |
| ·膜层高温氧化过程分析 | 第133-137页 |
| ·本章小结 | 第137-138页 |
| 结 论 | 第138-140页 |
| 参考文献 | 第140-151页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文 | 第151-153页 |
| 哈尔滨工业大学博士学位论文原创性声明 | 第153页 |
| 哈尔滨工业大学博士学位论文使用授权书 | 第153页 |
| 哈尔滨工业大学博士学位涉密论文管理 | 第153-154页 |
| 致 谢 | 第154-155页 |
| 个人简历 | 第155页 |
