SiC光学材料超精密研抛关键技术研究
摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
·课题的来源及意义 | 第10-14页 |
·课题的来源 | 第10页 |
·课题研究的背景和意义 | 第10-14页 |
·文献综述 | 第14-23页 |
·SiC反射镜的应用现状 | 第14-17页 |
·光学零件超精密加工技术的进展 | 第17-23页 |
·本论文的主要研究内容 | 第23-25页 |
第二章 SiC材料平面研抛工艺研究 | 第25-55页 |
·平面研抛运动的数学模型 | 第25-32页 |
·工件盘中心的运动轨迹 | 第25-28页 |
·工件盘随动转速的确定 | 第28-30页 |
·研抛轨迹数学模型的建立 | 第30-32页 |
·研抛加工中的平面成形原理 | 第32-40页 |
·工件表面的相对速度及影响因素 | 第32-35页 |
·研抛模表面的速度分布 | 第35-36页 |
·工件盘和研抛模之间的瞬时压强 | 第36-40页 |
·SiC工件的平面研抛工艺实验 | 第40-48页 |
·SiC材料的加工特点 | 第40-41页 |
·SiC工件的上盘方法 | 第41页 |
·SiC工件的研磨加工 | 第41-45页 |
·SiC工件的抛光加工 | 第45-48页 |
·光学零件表面质量的评价方法研究 | 第48-54页 |
·表面波纹度的评价方法及减小措施 | 第48-50页 |
·光学表面的分形特征 | 第50-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第三章 AOCMT光学加工机床的设计 | 第55-63页 |
·AOCMT光学加工机床的设计方法 | 第55-58页 |
·AOCMT光学加工机床的运动精度分析 | 第58-59页 |
·AOCMT光学加工机床的后置处理算法 | 第59-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
第四章 计算机控制成形光学非球面的理论研究 | 第63-82页 |
·CCOS的工作原理 | 第63-65页 |
·双转子研抛模的去除函数 | 第65-69页 |
·加工区域的驻留时间算法 | 第69-76页 |
·回转对称表面的驻留时间算法 | 第69-73页 |
·非回转表面的驻留时间算法 | 第73-76页 |
·CCOS加工中面形误差的收敛效率 | 第76-79页 |
·边缘效应的影响及消除措施 | 第79-81页 |
·本章小结 | 第81-82页 |
第五章 CCOS加工中刀具路径的规划 | 第82-96页 |
·光学表面的非球面度及面形拟合方法 | 第82-85页 |
·光学表面的法向非球面度 | 第82-84页 |
·二次曲面的面形拟合算法 | 第84-85页 |
·CCOS加工中研抛盘尺寸的合理选择 | 第85-90页 |
·吻合状态对研抛盘尺寸选择的要求 | 第85-89页 |
·进给步距对研抛盘尺寸选择的要求 | 第89页 |
·面形误差成分对研抛盘尺寸选择的要求 | 第89-90页 |
·CCOS加工中研抛模运动路径的规划 | 第90-94页 |
·本章小结 | 第94-96页 |
第六章 磁流变超精密抛光工艺研究 | 第96-114页 |
·磁流液的成分及基本性质 | 第96-99页 |
·磁流液的组成成分 | 第96页 |
·磁流液的稳定性 | 第96-98页 |
·磁流液的链化结构 | 第98-99页 |
·磁流液的连续介质模型 | 第99页 |
·磁流液在磁场中的流变效应 | 第99-101页 |
·磁流液的粘度变化 | 第99-100页 |
·磁流液的屈服应力 | 第100页 |
·磁流液的内部压强 | 第100-101页 |
·磁流变抛光(MRF)的数学模型 | 第101-108页 |
·MRF的原理 | 第101-102页 |
·MRF的数学模型 | 第102-107页 |
·MRF的成核形式 | 第107-108页 |
·工艺参数对磁流变抛光(MRF)的影响 | 第108-113页 |
·MRF装置的结构布局 | 第108-109页 |
·MRF各参数的工作范围 | 第109-110页 |
·工艺参数对MRF的影响 | 第110-113页 |
·本章小结 | 第113-114页 |
第七章 结论与展望 | 第114-116页 |
·全文总结 | 第114-115页 |
·研究展望 | 第115-116页 |
致谢 | 第116-117页 |
作者在攻读博士学位期间发表的论文 | 第117-118页 |
参考文献 | 第118-124页 |