GMR读磁头用面内取向CoCrPt薄膜的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| ·磁记录的发展历程和现状 | 第12-15页 |
| ·磁记录原理 | 第15-22页 |
| ·磁记录介质 | 第16-17页 |
| ·磁记录磁头 | 第17-22页 |
| ·信息存储技术未来的发展 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-25页 |
| 第二章 薄膜的制备及其性能表征 | 第25-39页 |
| ·薄膜的制备 | 第25-29页 |
| ·制备方法 | 第25-26页 |
| ·溅射原理 | 第26页 |
| ·薄膜生长过程 | 第26-27页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第27-28页 |
| ·溅射靶材的准备 | 第28页 |
| ·薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第29-38页 |
| ·薄膜膜厚的测量 | 第29-32页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第32-35页 |
| ·晶棱和晶面指数 | 第32-34页 |
| ·晶体结构分析方法 | 第34-35页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第35-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第三章 CoCrPt薄膜的结构和磁性能 | 第39-53页 |
| ·CoCrPt/Cr薄膜 | 第41-43页 |
| ·(200)取向的Cr衬底的制备 | 第41-42页 |
| ·CoCrPt/Cr薄膜 | 第42-43页 |
| ·CoCrPt/CrW薄膜 | 第43-47页 |
| ·Cr衬底织构的优化 | 第43-45页 |
| ·CoCrPt/CrW薄膜的结构和磁性 | 第45-47页 |
| ·CoCrPt/CoCr/CrW薄膜 | 第47-49页 |
| ·晶体学关系研究 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 结论 | 第53-55页 |
| 在学期间的研究成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
