摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-13页 |
第1章 绪论 | 第13-32页 |
·光折变效应概述 | 第13-15页 |
·聚合物光折变材料体系研究进展 | 第15-21页 |
·国外光折变材料研究和发展状况 | 第15-20页 |
·国内光折变材料研究和发展状况 | 第20-21页 |
·光折变基本理论 | 第21-25页 |
·无机晶体材料光折变理论模型 | 第21-23页 |
·有机聚合物材料光折变理论 | 第23-25页 |
·光折变基本性能的表征及原理 | 第25-30页 |
·二波耦合增系数 | 第25-28页 |
·衍射效率 | 第28-30页 |
·课题来源及主要研究内容 | 第30-32页 |
·课题意义及来源 | 第30页 |
·主要研究内容 | 第30-32页 |
第2章 材料合成与表征 | 第32-59页 |
·引言 | 第32-33页 |
·主要原料 | 第33页 |
·合成方法 | 第33-36页 |
·聚乙烯咔唑的合成 | 第33-34页 |
·偶氮硝基苯接枝聚乙烯咔唑(PVK-azo)合成 | 第34-35页 |
·结构表征方法 | 第35-36页 |
·结果与讨论 | 第36-52页 |
·PVK 合成工艺及结构分析 | 第36-42页 |
·PVK-azo 合成工艺与性能分析 | 第42-52页 |
·非线性生色基团分子 4-n-烷氧基-4'-氰基酚合成 | 第52-57页 |
·主要原材料 | 第52页 |
·正溴戊烷的合成 | 第52-53页 |
·4-烷氧基-4’-氰基二联苯(nOCB)的合成 | 第53-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第3章 PVK 及PVK-azo 光导特性研究 | 第59-77页 |
·引言 | 第59-60页 |
·主要原材料 | 第60页 |
·样品的制备 | 第60-61页 |
·氧化铟锡玻璃基板的处理 | 第60页 |
·制备薄膜样品的步骤 | 第60-61页 |
·PVK 及PVK-azo 光电导率 | 第61-70页 |
·实验光路图 | 第61-62页 |
·实验结果及讨论 | 第62-70页 |
·理论分析 | 第70-76页 |
·计算方法 | 第72页 |
·几何参数分析 | 第72-73页 |
·光电性能 | 第73-75页 |
·自旋密度 | 第75-76页 |
·本章小结 | 第76-77页 |
第4章 聚合物基光折变体系制备及相稳定性研究 | 第77-87页 |
·引言 | 第77页 |
·光折变体系样品的制备 | 第77-80页 |
·主要原材料及助剂 | 第78页 |
·样品的制备 | 第78-80页 |
·体系相稳定性和玻璃化温度的研究 | 第80-86页 |
·体系的相稳定性分析 | 第81-84页 |
·体系玻璃化温度分析 | 第84-86页 |
·本章小结 | 第86-87页 |
第5章 光折变性能研究 | 第87-117页 |
·引言 | 第87页 |
·二波耦合实验 | 第87-100页 |
·实验步骤及二波耦合增益系数的计算 | 第88-89页 |
·零外加电场的二波耦合现象 | 第89-90页 |
·零电场光折变现象的理论分析 | 第90-92页 |
·零电场二波耦合增益系数 | 第92-93页 |
·不同的生色团链长的二波耦合增益系数 | 第93-94页 |
·二波耦合两束光能量转移方向的分析 | 第94-97页 |
·外加电场对二波耦合增益系数的影响 | 第97-99页 |
·不同的入射角度的二波耦合增益系数 | 第99-100页 |
·稳态相位栅衍射效率研究 | 第100-103页 |
·不同的入射角度的衍射效率 | 第100-101页 |
·不同偶氮含量PVK-azo 及OCB 链长体系的衍射效率 | 第101-102页 |
·外加电场对衍射效率影响 | 第102-103页 |
·温度对衍射稳定性的影响 | 第103页 |
·利用TSC 方法研究载流子陷阱态 | 第103-116页 |
·热激电流理论 | 第104-106页 |
·热激过程的一般动力学方程 | 第106-107页 |
·聚合物中TSC 的特点 | 第107-108页 |
·热激电流曲线相关原理 | 第108-110页 |
·热激电流的曲线分析方法 | 第110-112页 |
·热激电流薄膜样品的制备 | 第112-113页 |
·热激电流测量装置 | 第113-114页 |
·TSC 结果分析 | 第114-116页 |
·本章小结 | 第116-117页 |
结论 | 第117-118页 |
参考文献 | 第118-128页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第128-130页 |
致谢 | 第130页 |