| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·铁电/铁磁复合材料的概述 | 第8-9页 |
| ·铁电/铁磁复合材料的结构特征及设计原理 | 第9-13页 |
| ·铁电材料的结构及性质 | 第9-11页 |
| ·铁磁材料的结构及性质 | 第11-12页 |
| ·铁电/铁磁复合材料的设计原理 | 第12-13页 |
| ·铁电/铁磁复合材料的发展过程及研究现状 | 第13-16页 |
| ·铁电/铁磁复合薄膜的优点及制备方法选择 | 第16-17页 |
| ·本论文的主要工作 | 第17-19页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第19-29页 |
| ·磁电复合薄膜的制备方法 | 第19-23页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)的基本原理 | 第20-21页 |
| ·脉冲激光沉积的过程 | 第21-22页 |
| ·PLD镀膜的工艺参数 | 第22-23页 |
| ·薄膜的微观结构分析方法 | 第23-26页 |
| ·XRD原理 | 第23-25页 |
| ·AFM原理 | 第25-26页 |
| ·薄膜的电性能表征 | 第26-27页 |
| ·薄膜的磁性能表征 | 第27-29页 |
| 第三章 PZT和NFO多层磁电薄膜的实验结果与讨论 | 第29-43页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·磁电薄膜制备层数对PZT/NFO多层薄膜的影响 | 第30-35页 |
| ·实验 | 第30-31页 |
| ·不同层数薄膜的 XRD图谱分析 | 第31-34页 |
| ·不同层数系列PZT薄膜的铁电性能研究 | 第34-35页 |
| ·薄膜夹持顺序对多层磁电薄膜结构和性能的影响 | 第35-36页 |
| ·厚度对多层磁电薄膜铁电性能的影响 | 第36-37页 |
| ·基片对多层磁电薄膜结构性能的影响 | 第37-42页 |
| ·不同基片上生长薄膜的微结构分析 | 第38-40页 |
| ·不同基片上生长薄膜的铁电铁磁性能分析 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 Fe_3O_4/MgO磁电薄膜的制备及其结构性能研究 | 第43-55页 |
| ·Fe_3O_4磁电薄膜的概述 | 第43-45页 |
| ·Fe_3O_4靶材的制备 | 第45-47页 |
| ·PLD法制备Fe_3O_4薄膜的生长工艺研究 | 第47-49页 |
| ·实验 | 第47-48页 |
| ·XRD θ/2θ扫描结果分析 | 第48-49页 |
| ·生长温度对Fe_3O_4/MgO薄膜结构和性能的影响 | 第49-53页 |
| ·生长温度对Fe_3O_4/MgO薄膜表面形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·生长温度对Fe_3O_4/MgO薄膜电阻率的影响 | 第50-51页 |
| ·生长温度对Fe_3O_4/MgO薄膜铁磁性能的影响 | 第51-53页 |
| ·PZT/Fe_3O_4/MgO多层磁电薄膜的生长研究 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第61页 |
