| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| ·永磁材料的发展历程 | 第10页 |
| ·纳米复合稀土永磁材料发展简介 | 第10-11页 |
| ·NdFeB 永磁材料简介 | 第11-12页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜简介 | 第12-14页 |
| ·磁性薄膜材料简介 | 第12-13页 |
| ·NdFeB 薄膜的国内外发展进展 | 第13页 |
| ·双相复合NdFeB 永磁薄膜简介 | 第13-14页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜的应用及研究意义 | 第14-17页 |
| 第二章 薄膜制备技术及分析手段 | 第17-33页 |
| ·薄膜制备技术简介 | 第17-20页 |
| ·物理气相沉积—真空蒸镀 | 第17-18页 |
| ·溅射成膜 | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积（CVD） | 第19-20页 |
| ·射频溅射、直流溅射及离子束溅射 | 第20-24页 |
| ·射频磁控溅射 | 第20-21页 |
| ·直流磁控溅射 | 第21-23页 |
| ·离子束溅射 | 第23-24页 |
| ·溅射仪器简介 | 第24-26页 |
| ·薄膜晶化原理介绍 | 第26页 |
| ·非晶态薄膜简介 | 第26页 |
| ·非晶态薄膜的晶化 | 第26页 |
| ·薄膜材料分析手段 | 第26-31页 |
| ·磁性分析仪器简介 | 第31-33页 |
| 第三章 直流磁控溅射NdFeB 薄膜的工艺研究 | 第33-43页 |
| ·溅射工艺参数对NdFeB 薄膜形貌的影响 | 第33-37页 |
| ·其他工艺参数对薄膜制备的影响 | 第37-38页 |
| ·溅射时间对薄膜厚度的影响 | 第37页 |
| ·溅射氩气分压对薄膜的影响 | 第37-38页 |
| ·基片温度对薄膜制备的影响 | 第38页 |
| ·基片材料的选择及基片预处理 | 第38-39页 |
| ·磁控溅射工艺流程 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 NdFeB 薄膜退火处理的工艺研究 | 第43-57页 |
| ·退火设备简介 | 第43页 |
| ·退火处理工艺的研究 | 第43-54页 |
| ·低温退火处理后纳米颗粒的凝聚现象 | 第44-45页 |
| ·退火温度对薄膜形貌的影响 | 第45-49页 |
| ·溅射功率对薄膜晶化的影响 | 第49-52页 |
| ·退火过程中薄膜的氧化和侵蚀 | 第52-54页 |
| ·退火处理保温时间对薄膜晶化的影响 | 第54页 |
| ·本章小结 | 第54-57页 |
| 第五章 NdFeB 薄膜的磁性能研究 | 第57-69页 |
| ·制备工艺及退火参数对NdFeB 薄膜磁性能的影响 | 第57-67页 |
| ·退火温度对薄膜磁性能的影响 | 第57-61页 |
| ·溅射功率对退火后薄膜磁性能的影响 | 第61-62页 |
| ·氩气分压对退火后薄膜磁性能的影响 | 第62-64页 |
| ·不同晶化温度下样品的磁滞回线分析 | 第64-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
| ·总结 | 第69页 |
| ·不足与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第75-76页 |