| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·磁记录的概况 | 第8-10页 |
| ·磁记录的发展简述 | 第10-12页 |
| ·磁记录技术面临的问题及解决方案 | 第12-20页 |
| ·磁记录技术面临的问题 | 第12-13页 |
| ·问题的解决 | 第13-20页 |
| ·影响磁记录介质的重要因素 | 第20-26页 |
| ·矫顽力 | 第20页 |
| ·饱和磁化强度和剩余磁化强度 | 第20-21页 |
| ·磁滞回线的方形度 | 第21-22页 |
| ·磁相互作用 | 第22-24页 |
| ·磁激活体积 | 第24-25页 |
| ·平均粗糙度 | 第25-26页 |
| ·研究工作及目的 | 第26-28页 |
| 第二章 薄膜的制备方法及测试 | 第28-47页 |
| ·薄膜的制备工艺 | 第28-36页 |
| ·真空蒸镀法 | 第28-29页 |
| ·溅射法 | 第29-31页 |
| ·薄膜生长 | 第31-32页 |
| ·基片清洗 | 第32-34页 |
| ·薄膜厚度的表征 | 第34页 |
| ·薄膜样品的热处理 | 第34-36页 |
| ·薄膜的基本测试及原理 | 第36-41页 |
| ·磁特性的测量 | 第36-37页 |
| ·晶体结构的测量 | 第37-38页 |
| ·表面形貌及磁结构的测量 | 第38-41页 |
| ·样品的制备与测试 | 第41-47页 |
| ·样品的制备 | 第41-44页 |
| ·测试 | 第44-47页 |
| 第三章 (Ti) /Ni/ Ti 纳米薄膜的制备、微结构和磁特性研究 | 第47-75页 |
| ·Ti 衬底层对 Ni/Ti 薄膜微结构磁特性的影响 | 第47-54页 |
| ·样品的制备及测试 | 第47页 |
| ·实验结果和讨论 | 第47-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| ·Ti 覆盖层对 Ti/Ni/Ti 薄膜微结构和磁特性的影响 | 第54-60页 |
| ·样品的制备及测试 | 第54-55页 |
| ·实验结果和讨论 | 第55-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| ·Ni 磁性层对 Ti/Ni/Ti 薄膜微结构和磁特性的影响 | 第60-67页 |
| ·样品的制备及测试 | 第60页 |
| ·实验结果和讨论 | 第60-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| ·退火温度对 Ti/Ni/Ti 薄膜微结构和磁特性的影响 | 第67-75页 |
| ·样品的制备及测试 | 第67页 |
| ·实验结果和讨论 | 第67-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| 第四章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 研究生期间发表论文情况 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
