摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-16页 |
第一章 绪论 | 第16-46页 |
·高压物理学概述 | 第16-18页 |
·纳米材料的高压研究 | 第18-23页 |
·双原子分子 N2的高压研究 | 第23-31页 |
·分子筛的研究进展 | 第31-42页 |
·分子筛的高压研究 | 第31-39页 |
·磷酸铝分子筛的常压研究 | 第39-42页 |
·本论文的研究目的及意义 | 第42-44页 |
·论文的主要内容 | 第44-46页 |
第二章 高压实验技术与方法 | 第46-52页 |
·静高压实验技术简介 | 第46-49页 |
·金刚石对顶砧高压装置 | 第46-47页 |
·封垫和传压介质的选择 | 第47-48页 |
·压力的标定 | 第48-49页 |
·高压同步辐射 XRD 技术简介 | 第49-50页 |
·高压 Raman 技术简介 | 第50-52页 |
第三章 AlPO4-5 分子筛高压行为研究 | 第52-66页 |
·引言 | 第52-53页 |
·实验过程 | 第53页 |
·结果与讨论 | 第53-63页 |
·形貌与结构研究 | 第53-54页 |
·硅油作传压介质时 AlPO4-5 分子筛的高压 XRD 研究 | 第54-55页 |
·传压介质中掺入 N2时 AlPO4-5 分子筛的高压 XRD 研究 | 第55-57页 |
·不同传压介质对高压下 AlPO4-5 分子筛晶体结构产生的影响 | 第57-63页 |
·本章小结 | 第63-66页 |
第四章 限域于 AlPO4-5 分子筛孔道内双原子分子 N2 的高压行为研究 | 第66-78页 |
·引言 | 第66页 |
·实验过程 | 第66-67页 |
·结果与讨论 | 第67-75页 |
·形貌与结构研究 | 第67-68页 |
·限域于非晶态 AlPO4-5 内部 N2的高压 Raman 研究 | 第68-73页 |
·限域于完整 AlPO4-5 内部 N2的高压 Raman 研究 | 第73-75页 |
·本章小结 | 第75-78页 |
第五章 常压下 N2@AFI 纳米限域系统稳定性研究 | 第78-86页 |
·引言 | 第78页 |
·卸压后 AFI 分子筛骨架结构稳定性研究 | 第78-79页 |
·卸压后限域系统的形貌与组分研究 | 第79-84页 |
·N2@AFI 系统的形貌与组分分布 | 第79-81页 |
·N2在 AFI 分子筛内部状态研究 | 第81页 |
·N2在 AFI 分子筛内部偏振 Raman 光谱研究 | 第81-83页 |
·N2在 AFI 分子筛内部稳定性研究 | 第83-84页 |
·本章小结 | 第84-86页 |
第六章 尺寸效应对 Mn3O4高压行为产生的影响 | 第86-98页 |
·引言 | 第86-87页 |
·实验方法 | 第87-88页 |
·Mn3O4样品的形貌与结构研究 | 第88-89页 |
·Mn3O4样品的高压 XRD 研究 | 第89-91页 |
·Mn3O4样品的高压 Raman 研究 | 第91-93页 |
·尺寸效应对 Mn3O4样品高压行为产生的影响 | 第93-97页 |
·本章小结 | 第97-98页 |
第七章 结论 | 第98-102页 |
参考文献 | 第102-114页 |
作者简介 | 第114-116页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第116-118页 |
致谢 | 第118-119页 |