内容提要 | 第1-7页 |
第一章 绪论 | 第7-18页 |
·光网络与波分复用技术 | 第7-8页 |
·波分复用系统概述 | 第8-10页 |
·波分复用系统的基本结构 | 第8-9页 |
·波分复用技术的优点 | 第9页 |
·波分复用系统中的关键器件——光波分复用器 | 第9-10页 |
·阵列波导光栅波分复用器(AWG)研究进展 | 第10-16页 |
·无机AWG 的研究热点 | 第10-15页 |
·有机聚合物AWG 的研究进展 | 第15-16页 |
·阵列波导光栅波分复用器(AWG)的发展方向 | 第16-17页 |
·本论文的主要工作 | 第17-18页 |
第二章AWG 结构原理、性能参数及主要应用 | 第18-31页 |
·AWG 基本结构 | 第18-19页 |
·AWG 的原理 | 第19-24页 |
·罗兰圆原理 | 第19-20页 |
·光栅方程 | 第20-21页 |
·角色散方程 | 第21-22页 |
·自由光谱区FSR | 第22-23页 |
·波长分配原理 | 第23-24页 |
·AWG 的性能分析 | 第24-29页 |
·插入损耗 | 第24-25页 |
·串扰 | 第25-27页 |
·偏振相关性 | 第27-28页 |
·波谱平坦性 | 第28页 |
·温度相关性 | 第28-29页 |
·AWG 的应用 | 第29-30页 |
本章小结 | 第30-31页 |
第三章 含氟聚酰亚胺AWG 的参数优化及波谱平坦性 | 第31-57页 |
·引言 | 第31-32页 |
·高斯型含氟聚酰亚胺AWG 的设计及参数优化 | 第32-47页 |
·参数的选取 | 第32-36页 |
·计算机辅助分析与设计的理论基础 | 第36-39页 |
·高斯型含氟聚酰亚胺AWG 的基础模拟 | 第39-47页 |
·波谱平坦型含氟聚酰亚胺AWG 的设计 | 第47-55页 |
·所运用的方法理论 | 第47-50页 |
·含氟聚酰亚胺AWG 的波谱平坦性优化 | 第50-55页 |
·波谱平坦型AWG 器件设计流程图 | 第55-56页 |
本章小结 | 第56-57页 |
第四章 含氟聚酰亚胺AWG 制备的基础研究 | 第57-71页 |
·含氟聚酰亚胺的性能 | 第57-58页 |
·含氟聚酰亚胺的合成 | 第57页 |
·含氟聚酰亚胺制作波导及AWG 器件的优势 | 第57-58页 |
·含氟聚酰亚胺AWG 器件的工艺研究 | 第58-68页 |
·旋涂下包层和芯层 | 第58-59页 |
·蒸镀铝膜 | 第59-60页 |
·光刻 | 第60-61页 |
·显影 | 第61-62页 |
·反应离子刻蚀(Reactive Ion Etch) | 第62-64页 |
·显影 | 第64页 |
·旋涂上包层 | 第64-65页 |
·器件的解理 | 第65页 |
·测试 | 第65-68页 |
·含氟聚酰亚胺AWG 制备工艺流程图 | 第68-70页 |
本章小结 | 第70-71页 |
结论 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-76页 |
摘要 | 第76-78页 |
Abstract | 第78-81页 |
致谢 | 第81页 |