摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
目录 | 第5-8页 |
1 绪论 | 第8-18页 |
·自组装 | 第8-11页 |
·自组装技术的定义 | 第8页 |
·自组装的基本原理 | 第8-9页 |
·自组装法的分类 | 第9-11页 |
·静电吸引自组装法 | 第9-10页 |
·原位自组装法 | 第10页 |
·化学吸附自组装法 | 第10-11页 |
·介孔薄膜的自组装 | 第11-12页 |
·介孔材料 | 第11页 |
·有序介孔材料 | 第11-12页 |
·表面活性剂与模板自组装 | 第12-14页 |
·表面活性剂与氧化物作用机理 | 第13-14页 |
·硅介孔材料的组装机理 | 第14页 |
·空气—水界面薄膜的国内外研究情况 | 第14-16页 |
·本文研究目的及主要工作 | 第16-18页 |
·研究目的 | 第16-17页 |
·主要工作 | 第17-18页 |
2 SiO_2纳米结构薄膜的制备及表征 | 第18-25页 |
·实验概况 | 第18-20页 |
·实验仪器、试剂及表征手段 | 第18-20页 |
·实验仪器 | 第18页 |
·实验药剂 | 第18页 |
·X射线衍射 | 第18-19页 |
·扫描电子显微镜及能谱 | 第19页 |
·透射电子显微镜和高分辨透射电镜 | 第19页 |
·热重-差热分析 | 第19页 |
·拉曼光谱(Raman Spectrography) | 第19页 |
·N_2吸附-脱附脱附(BET) | 第19-20页 |
·紫外光谱 | 第20页 |
·二氧化硅薄膜的制备及表征 | 第20-23页 |
·薄膜制备 | 第20-21页 |
·二氧化硅薄膜的表征与讨论 | 第21-23页 |
·XRD表征 | 第21-22页 |
·SEM表征 | 第22页 |
·TEM表征 | 第22-23页 |
·拉曼光谱 | 第23页 |
·SiO_2自组装薄膜形成的机理 | 第23-24页 |
·本章小结 | 第24-25页 |
3 SiO_2薄膜的形成条件及性质研究 | 第25-44页 |
·阳离子表面活性剂在成膜中的作用 | 第25-27页 |
·实验步骤 | 第25-26页 |
·XRD表征 | 第26页 |
·TEM表征 | 第26-27页 |
·结论 | 第27页 |
·高分子稳定剂在成膜中的作用 | 第27-33页 |
·明胶的作用 | 第27-32页 |
·实验步骤 | 第27-28页 |
·XRD表征 | 第28-29页 |
·SEM表征及元素分析(EDS) | 第29-30页 |
·TEM表征 | 第30页 |
·机理探讨 | 第30-32页 |
·其它高分子稳定剂的作用 | 第32-33页 |
·碱的种类对成膜的影响 | 第33-35页 |
·使用三乙醇胺制备SiO_2薄膜 | 第33-34页 |
·实验步骤 | 第33页 |
·实验现象 | 第33-34页 |
·XRD表征 | 第34页 |
·TEM表征 | 第34-35页 |
·SiO_2纳米结构薄膜的动力学研究 | 第35-37页 |
·煅烧实验 | 第37-43页 |
·无明胶的薄膜的BET表征 | 第37-38页 |
·TG表征 | 第38-39页 |
·XRD表征 | 第39-40页 |
·加入明胶的薄膜的BET表征 | 第40-41页 |
·SEM表征 | 第41页 |
·TEM表征 | 第41-42页 |
·机理分析 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
4 SiO_2薄膜的浸泡与改性实验 | 第44-51页 |
·用去离子水浸泡 | 第44页 |
·用0.05mol/L硝酸银溶液浸泡 | 第44-50页 |
·实验步骤 | 第45页 |
·XRD表征 | 第45-46页 |
·SEM表征及元素分析(EDS) | 第46-47页 |
·TEM表征 | 第47-48页 |
·TG表征 | 第48页 |
·不同温度煅烧后负载薄膜XRD表征 | 第48-49页 |
·紫外光谱 | 第49页 |
·Raman光谱 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
5 SiO_2/TiO_2二元氧化物空气—水界面膜的制备 | 第51-56页 |
·实验步骤 | 第51页 |
·XRD表征 | 第51-52页 |
·TG表征 | 第52-53页 |
·TEM表征 | 第53页 |
·Raman光谱 | 第53-54页 |
·机理讨论 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
结论 | 第56-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-65页 |
论文投稿情况 | 第65页 |