摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
§1.1 真空电子学和真空电子器件的发展历史 | 第9-11页 |
§1.2 真空电子器件的现状和发展趋势 | 第11-14页 |
§1.3 行波管的基本功能和基本原理 | 第14-16页 |
§1.4 慢波结构简介 | 第16-20页 |
§1.5 课题研究的意义 | 第20-23页 |
第二章 大型电磁场分析软件MAFIA和MWS概述 | 第23-30页 |
§2.1 前言 | 第23-24页 |
§2.2 MAFIA简介 | 第24-26页 |
§2.2.1 M模块(The Mesh Generator) | 第25页 |
§2.2.2 E模块(The Eigenmode Solver) | 第25-26页 |
§2.2.3 P模块(The Postprocessor) | 第26页 |
§2.3 微波工作室(MicroWave Studio)简介 | 第26-28页 |
§2.4 计算机模拟仿真的步骤 | 第28-30页 |
第三章 叶片加载慢波结构的理论分析 | 第30-39页 |
§3.1 慢波结构的一般特性 | 第30-33页 |
§3.1.1 色散特性(Dispersion) | 第30-31页 |
§3.1.2 耦合阻抗(Coupling Impedance) | 第31-32页 |
§3.1.3 损耗特性 | 第32-33页 |
§3.2 叶片加载慢波结构的理论分析 | 第33-38页 |
§3.2.1 叶片加载波导型慢波结构简介 | 第34-35页 |
§3.2.2 叶片加载慢波系统的高频特性分析 | 第35-38页 |
§3.3 本章小结 | 第38-39页 |
第四章 叶片加载慢波结构的冷特性分析 | 第39-48页 |
§4.1 单排叶片加载慢波结构的冷特性分析 | 第39-44页 |
§4.1.1 单排叶片加载慢波结构的色散特性 | 第39-43页 |
§4.1.2 单排叶片加载慢波结构的耦合阻抗 | 第43-44页 |
§4.2 单排内开槽叶片加载慢波结构的冷特性分析 | 第44-47页 |
§4.2.1 单排内开槽叶片加载慢波结构的色散特性 | 第45-47页 |
§4.2.2 单排内开槽叶片加载慢波结构的耦合阻抗 | 第47页 |
§4.3 本章小结 | 第47-48页 |
第五章 双开槽叶片加载慢波结构的模拟仿真 | 第48-58页 |
§5.1 引言 | 第48页 |
§5.2 模型结构 | 第48-49页 |
§5.3 结构参数对冷特性的影响 | 第49-57页 |
§5.3.1 侧边内开槽宽度变化对冷特性的影响 | 第49-51页 |
§5.3.2 叶片高度变化对冷特性的影响 | 第51-53页 |
§5.3.3 叶片间距变化对冷特性的影响 | 第53-55页 |
§5.3.4 底板开槽深度变化对冷特性的影响 | 第55-57页 |
§5.4 结论 | 第57页 |
§5.5 本章小结 | 第57-58页 |
第六章 结束语 | 第58-59页 |
参考文献: | 第59-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第64-65页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第65页 |