| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-28页 |
| ·磁记录概述 | 第9-11页 |
| ·磁记录介质主要技术参数 | 第11-19页 |
| ·磁记录薄膜介质材料的结构 | 第19-23页 |
| ·磁性层中掺杂元素的作用 | 第23-24页 |
| ·高密度磁记录对记录介质材料的要求 | 第24-26页 |
| ·本文的研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 钻基合金薄膜的制备及其性能表征 | 第28-42页 |
| ·样品的制备方法 | 第28-34页 |
| ·薄膜样品的性能表征 | 第34-42页 |
| 第三章 CoCrTa/Ti磁性薄膜的微结构和磁特性 | 第42-62页 |
| ·衬层对 CoCrTa磁性薄膜的微结构和磁特性的影响 | 第43-51页 |
| ·基片温度对 CoCrTa记录介质微结构和磁特性的 | 第51-59页 |
| ·缓冲层厚度对 CoCrTa记录介质的影响 | 第59-62页 |
| 第四章 SmCo_5/Cr纵向介质的微结构和磁特性 | 第62-84页 |
| ·基片温度对 Cr/SmCo_5/Cr微结构和磁特性的影 | 第63-70页 |
| ·缓冲层厚度对 Cr/SmCo_5/Cr微结构和磁特性的影响 | 第70-77页 |
| ·溅射压强对 Cr/SmCo_5/Cr微结构和磁特性的影响 | 第77-84页 |
| 第五章 结论及展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第92-94页 |
| 致谢 | 第94页 |
