| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·纳米二氧化铈粉体的制备方法 | 第10-14页 |
| ·固相法 | 第10-11页 |
| ·液相法 | 第11-13页 |
| ·气相法 | 第13-14页 |
| ·醇水法在液相制备纳米粉体材料中的应用 | 第14-17页 |
| ·醇水共沉淀法制备纳米材料 | 第14-15页 |
| ·醇水均匀沉淀法制备纳米材料 | 第15-16页 |
| ·醇水水热法制备纳米材料 | 第16-17页 |
| ·二氧化铈的应用 | 第17-19页 |
| ·在超精密抛光中的应用 | 第17-18页 |
| ·在汽车尾气净化催化上的应用 | 第18页 |
| ·在固体氧化物燃料电池(SOFC)中的应用 | 第18页 |
| ·在其它方面的应用 | 第18-19页 |
| ·化学机械抛光(CMP)技术的研究现状及发展趋势 | 第19-23页 |
| ·化学机械抛光(CMP)技术原理 | 第19页 |
| ·CMP技术设备及消耗品 | 第19-21页 |
| ·CMP系统主要过程变量 | 第21-22页 |
| ·化学机械抛光机理研究现状 | 第22-23页 |
| ·本课题的意义及研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 醇水均匀沉淀法制备纳米CeO_2颗粒及表征 | 第25-37页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·实验原理及方法 | 第25-26页 |
| ·实验原理 | 第25-26页 |
| ·实验方法 | 第26页 |
| ·结果及分析 | 第26-35页 |
| ·Ce~(3+)浓度对透光率的影响 | 第26-28页 |
| ·HMT与Ce(NO_3)_3摩尔比对透光率的影响 | 第28页 |
| ·醇水体积比对透光率的影响 | 第28-29页 |
| ·前驱体颗粒的表征 | 第29-31页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第31-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 醇水法制备纳米CeO_2中醇的作用机理探究 | 第37-44页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·醇水法的理论依据 | 第37-39页 |
| ·实验方法 | 第39-40页 |
| ·结果与分析 | 第40-43页 |
| ·醇的种类对粉体的影响 | 第40-42页 |
| ·醇水比例的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 纳米CeO_2颗粒对GaAs晶片的抛光性能研究 | 第44-54页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验方法 | 第44-50页 |
| ·亚微米级球状CeO_2颗粒的制备 | 第45页 |
| ·不同粒径纳米级CeO_2颗粒的制备 | 第45-46页 |
| ·亚微米CeO_2磨料预抛光试验 | 第46-47页 |
| ·不同粒径纳米CeO_2磨料精抛光试验 | 第47-50页 |
| ·CeO_2磨料对GaAs晶片的化学机械抛光机理分析 | 第50-53页 |
| ·化学机械作用对材料去除的影响 | 第50页 |
| ·抛光垫的影响作用分析 | 第50-51页 |
| ·纳米CeO_2磨料粒度对GaAs抛光性能的影响 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 结束语 | 第54-57页 |
| ·主要结论 | 第54-55页 |
| ·存在的问题及进一步研究方向 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第63页 |
| 申请专利情况 | 第63页 |
