| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 1 绪论 | 第12-24页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·ZnO的基本特性及用途 | 第14-16页 |
| ·紫外受激发射特性 | 第14-15页 |
| ·透明导电特性 | 第15页 |
| ·压电特性 | 第15页 |
| ·作为GaN的缓冲层 | 第15页 |
| ·其它特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜研究的科学意义、现状及进展 | 第16-20页 |
| ·薄膜研究的科学意义 | 第16-17页 |
| ·薄膜的研究现状 | 第17页 |
| ·薄膜生长方面的研究进展 | 第17-20页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术概述 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射 ZnO薄膜的研究进展 | 第21-22页 |
| ·本论文的研究目的和研究重点 | 第22-24页 |
| 2 ZnO薄膜的制备及表征方法 | 第24-37页 |
| ·反应磁控溅射技术制备ZnO薄膜 | 第24-25页 |
| ·反应溅射基本原理 | 第24-25页 |
| ·薄膜沉积系统 | 第25页 |
| ·薄膜基片处理方法 | 第25页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第25-32页 |
| ·薄膜表面形貌的表征 | 第25-27页 |
| ·薄膜微观结构的表征 | 第27-29页 |
| ·薄膜的光学性能表征 | 第29-32页 |
| ·放电条件对反应磁控溅射成膜空间中等离子体成分的影响 | 第32-36页 |
| ·发射光谱随溅射时间的变化 | 第32-33页 |
| ·发射光谱随沉积温度的变化 | 第33-34页 |
| ·发射光谱随氧气流量比例的变化 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 3 ZnO在Si基片表面的形核过程及物理机制 | 第37-50页 |
| ·薄膜成核阶段表面形貌演化的研究 | 第37-41页 |
| ·薄膜的拓扑形貌分析 | 第37页 |
| ·薄膜的平整区域粗糙度分析 | 第37-39页 |
| ·薄膜的平均厚度分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的剖面分析 | 第40-41页 |
| ·薄膜成核阶段表面形貌演化的动力学标度分析 | 第41-43页 |
| ·薄膜生长阶段表面形貌的演化 | 第43-44页 |
| ·薄膜生长阶段表面形貌演化的动力学标度分析 | 第44-45页 |
| ·薄膜的微观结构分析 | 第45-49页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第45-47页 |
| ·薄膜的TEM分析 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 4 基片偏压对ZnO薄膜成核机制的影响 | 第50-60页 |
| ·固定偏压下薄膜表面形貌的演化 | 第50-52页 |
| ·薄膜的拓扑形貌分析 | 第50-52页 |
| ·薄膜的平整区域粗糙度分析 | 第52页 |
| ·薄膜表面形貌演化的动力学标度分析 | 第52-54页 |
| ·薄膜的微观结构分析 | 第54-55页 |
| ·固定偏压下ZnO薄膜的光学性能 | 第55-56页 |
| ·不同偏压对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第56-58页 |
| ·不同偏压对ZnO薄膜微观结构的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 5 ZnO薄膜在Si(001)基体上的直接外延生长 | 第60-69页 |
| ·薄膜的平面形貌分析 | 第60-62页 |
| ·薄膜的界面分析 | 第62-65页 |
| ·薄膜的XRD极图分析 | 第65-67页 |
| ·薄膜在Si基片上的外延生长机制 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 6 沉积温度对 ZnO薄膜生长行为的影响 | 第69-91页 |
| ·沉积温度对 ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第69-71页 |
| ·薄膜拓扑形貌、表面岛密度及表面粗糙度分析 | 第69-71页 |
| ·薄膜的RHEED分析 | 第71页 |
| ·薄膜表面形貌演化的动力学标度行为 | 第71-73页 |
| ·沉积温度对 ZnO薄膜微观结构的影响 | 第73-83页 |
| ·薄膜 XRD分析 | 第73-75页 |
| ·薄膜晶体取向分析 | 第75-76页 |
| ·薄膜界面分析 | 第76-81页 |
| ·薄膜 EPMA成分分析 | 第81-82页 |
| ·薄膜 Raman谱分析 | 第82-83页 |
| ·沉积温度对 ZnO薄膜光学性能的影响 | 第83-86页 |
| ·ZnO薄膜的两步生长 | 第86-90页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第86-88页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜表面粗糙度的影响 | 第88页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜表面形貌演化标度的影响 | 第88-89页 |
| ·低温沉积时间对 ZnO薄膜微观结构的影响 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 7 工作气压对 ZnO薄膜生长行为的影响 | 第91-105页 |
| ·工作气压对 ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第91-95页 |
| ·拓扑形貌以及表面岛密度分析 | 第91-93页 |
| ·表面形貌演化的标度行为分析 | 第93-95页 |
| ·工作气压对 ZnO薄膜微观结构的影响 | 第95-100页 |
| ·薄膜平面 TEM分析 | 第95-98页 |
| ·薄膜平面 HRTEM分析 | 第98-99页 |
| ·薄膜取向关系分析 | 第99-100页 |
| ·工作气压对 ZnO薄膜的光学性能的影响 | 第100-103页 |
| ·本章小结 | 第103-105页 |
| 8 ZnO薄膜退火热力学行为 | 第105-122页 |
| ·退火温度对 ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第105-109页 |
| ·薄膜拓扑形貌及表面粗糙度分析 | 第105-107页 |
| ·薄膜表面形貌演化的标度行为 | 第107-109页 |
| ·退火温度对 ZnO薄膜微观结构的影响 | 第109-120页 |
| ·薄膜 XRD分析 | 第109-111页 |
| ·薄膜 TEM形貌分析 | 第111-113页 |
| ·薄膜的退火热力学行为 | 第113-116页 |
| ·薄膜界面分析 | 第116-120页 |
| ·退火温度对 ZnO薄膜 PL光谱的影响 | 第120-121页 |
| ·本章小结 | 第121-122页 |
| 结论 | 第122-124页 |
| 参考文献 | 第124-133页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第133-135页 |
| 创新点摘要 | 第135-136页 |
| 致谢 | 第136-137页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第137页 |
