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CMOS低压差稳压器设计

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
1 CMOS低压差稳压器的原理及主要特性第11-21页
   ·电路结构与工作原理第11页
   ·主要特性分析第11-21页
     ·脱落电压第11-14页
     ·静态电流第14-15页
     ·LDO稳压器的拓朴结构第15-16页
     ·效率第16页
     ·负载调整率第16-17页
     ·线性调整率第17-19页
     ·输出电压精度第19-21页
2 芯片的解剖第21-24页
   ·测试第21-22页
   ·去除封装第22页
   ·刻蚀Si_3N_4第22页
   ·去除铝层第22-23页
   ·去除多晶层第23页
   ·染色第23-24页
3 电路提取第24-31页
   ·拼图第24页
   ·提取线路图前的准备第24-25页
     ·压焊块的确认第24页
     ·确认管型第24-25页
     ·划分功能块第25页
   ·提取线路图第25-31页
     ·压焊块与静电放电保护第25-26页
     ·电源控制电路的提取第26-27页
     ·基准电路的提取第27-28页
     ·误差放大电路第28-29页
     ·调整管第29-31页
4 电路分析第31-53页
   ·电源控制电路第31-38页
     ·M75管的作用第32-35页
     ·反相器链的设计第35-38页
     ·仿真结果第38页
   ·电压基准电路第38-44页
     ·电路工作原理第38-39页
     ·温度特性第39-41页
     ·计算第41-42页
     ·仿真结果第42-44页
   ·误差放大器和输出调整管第44-48页
     ·框图第45-46页
     ·计算第46-48页
     ·仿真第48页
   ·短路保护电路第48-49页
   ·整体电路仿真第49-53页
     ·脱落电压第49-50页
     ·静态电流第50页
     ·效率第50页
     ·负载调整率第50-51页
     ·线性调整率第51页
     ·温度系数第51-52页
     ·输出电压精度第52-53页
5 芯片可能的工艺过程第53-57页
   ·材料的选择第53页
   ·外延第53页
   ·n阱扩散第53页
   ·场氧化第53-54页
   ·栅氧化和多晶硅栅第54页
   ·有源区注入第54-55页
   ·接触孔第55页
   ·钝化第55-57页
6 版图设计第57-60页
   ·版图中的特殊设计第57-58页
     ·调整管的设计第57页
     ·多晶硅电阻上覆盖金属的作用第57-58页
     ·防沾污措施第58页
   ·版图设计规则第58-60页
7 结论第60-61页
参考文献第61-64页
附录A 总电路图第64-65页
在学研究成果第65-66页
致谢第66页

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