| 第一章 绪论 | 第1-41页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·碳纳米管碳纳米纤维(CNTs/CNFs) | 第14-24页 |
| ·场发射平面显示器 | 第24-27页 |
| ·CNTs/CNFs场发射显示器研究进展 | 第27-29页 |
| ·本文研究内容 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-41页 |
| 第二章 实验设备系统及表征分析方法 | 第41-52页 |
| ·热 CVD系统设备 | 第41-43页 |
| ·电子场发射测试系统 | 第43-48页 |
| ·丝网印刷系统 | 第48-50页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第50页 |
| ·其他系统 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第三章 CNTs/CNFs生长机理及场致发射理论 | 第52-62页 |
| ·CNTs/CNFs的生长机理 | 第52-56页 |
| ·电子场致发射理论 | 第56-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第四章 热 CVD碳纳米材料批量生长 | 第62-83页 |
| ·引言 | 第62-63页 |
| ·实验过程 | 第63-65页 |
| ·热 CVD生长碳纳米材料之实验步骤 | 第63-64页 |
| ·主要实验材料 | 第64页 |
| ·碳纳米材料分析 | 第64-65页 |
| ·结果和讨论 | 第65-80页 |
| ·温度对沉积的碳纳米材料的影响 | 第65-75页 |
| ·不同镍合金片对沉积的碳纳米材料的影响 | 第75-76页 |
| ·讨论 | 第76-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 第五章 丝网印刷碳纳米材料阴极制备及其场发射特性 | 第83-97页 |
| ·引言 | 第83-84页 |
| ·实验过程 | 第84-85页 |
| ·结果 | 第85-93页 |
| ·讨论 | 第93-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-97页 |
| 第六章 CVD生长碳纳米材料薄膜阴极及其场发射特性 | 第97-114页 |
| ·引言 | 第97-98页 |
| ·实验过程 | 第98-100页 |
| ·玻璃衬底上 CNTs/CNFs薄膜生长 | 第98-100页 |
| ·硅衬底上 CNTs/ CNFs膜生长 | 第100页 |
| ·结果 | 第100-109页 |
| ·玻璃衬底上 CNTs/ CNFs膜形貌及其场发射 | 第100-106页 |
| ·硅衬底上 CNTs/ CNFs膜的形貌 | 第106-109页 |
| ·讨论 | 第109-111页 |
| ·本章小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-114页 |
| 第七章 碳纳米材料场发射显示器的研制 | 第114-131页 |
| ·引言 | 第114页 |
| ·c-FED器件及工艺设计 | 第114-119页 |
| ·材料选择 | 第119-120页 |
| ·工艺步骤 | 第120-127页 |
| ·器件性能测试 | 第127-129页 |
| ·本章小结 | 第129-130页 |
| 参考文献 | 第130-131页 |
| 第八章 结论和展望 | 第131-133页 |
| ·结论 | 第131-132页 |
| ·展望 | 第132-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
| 攻读博士期间发表论文 | 第134-135页 |