| 第1章 引言 | 第1-10页 |
| 第2章 文献综述 | 第10-24页 |
| 2．1 节能镀膜玻璃的概况 | 第10-15页 |
| 2．1．1 节能镀膜玻璃 | 第10-11页 |
| 2．1．2 低辐射、阳光控制镀膜玻璃的节能原理 | 第11-13页 |
| 2．1．3 节能型镀膜玻璃的评价参数 | 第13-15页 |
| 2．2 节能镀膜玻璃的种类 | 第15-18页 |
| 2．2．1 电介质/金属/电介质多层复合低辐射玻璃 | 第15-16页 |
| 2．2．2 半导体单层膜低辐射玻璃 | 第16-18页 |
| 2．2．3 阳光控制低辐射玻璃 | 第18页 |
| 2．3 节能镀膜玻璃的制备技术 | 第18-22页 |
| 2．3．1 真空蒸发镀膜法 | 第18页 |
| 2．3．2 电浮法镀膜 | 第18页 |
| 2．3．3 热喷涂镀膜法 | 第18-19页 |
| 2．3．4 化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| 2．3．5 溅射镀膜法 | 第20页 |
| 2．3．6 溶胶-凝胶法镀膜 | 第20-22页 |
| 2．4 选题角度的确定 | 第22-24页 |
| 第3章 预镀SiO_2膜玻璃基片上 SnO_2:Sb的Sol-Gel的制备及表征方法 | 第24-31页 |
| 3．1 溶胶-凝胶体系的应用 | 第24页 |
| 3．2 实验设备与器材 | 第24-25页 |
| 3．3 试样制备过程 | 第25-26页 |
| 3．3．1 主要原料 | 第25页 |
| 3．3．2 溶胶的配置 | 第25页 |
| 3．3．3 玻璃基片的清洗 | 第25页 |
| 3．3．4 浸渍镀膜和热处理 | 第25-26页 |
| 3．4 SnO_2:Sb薄膜形成过程探讨 | 第26-28页 |
| 3．5 薄膜试样结构和性能表征方法 | 第28-31页 |
| 3．5．1 薄膜结构的测定 | 第28-29页 |
| 3．5．2 中红外反测率测试 | 第29页 |
| 3．5．3 薄膜表面形貌的测定 | 第29-30页 |
| 3．5．4 薄膜成分的测定 | 第30页 |
| 3．5．5 光学性能测定 | 第30页 |
| 3．5．6 电学性能测定 | 第30-31页 |
| 第4章 锑掺杂二氧化锡薄膜的结构和性能表征 | 第31-56页 |
| 4．1 不同热处理温度对薄膜结构和性能的影响 | 第31-39页 |
| 4．1．1 镀膜试样的 XRD测试分析 | 第31页 |
| 4．1．2 镀膜试样的紫外-可见光透过率测试分析 | 第31页 |
| 4．1．3 镀膜试样的方块电阻测试分析 | 第31-33页 |
| 4．1．4 镀膜试样的XPS测试分析 | 第33-37页 |
| 4．1．5 镀膜试样的SEM测试分析 | 第37-38页 |
| 4．1．6 结果讨论与分析 | 第38-39页 |
| 4．2 不同锑掺杂浓度对薄膜结构和性能影响 | 第39-48页 |
| 4．2．1 镀膜试样的 XRD测试分析 | 第39-40页 |
| 4．2．2 镀膜试样的 SPM测试分析 | 第40-41页 |
| 4．2．3 镀膜试样的紫外-可见光透过率测试分析 | 第41-42页 |
| 4．2．4 镀膜试样的 XPS测试分析 | 第42-44页 |
| 4．2．5 镀膜试样的电学性能测试分析 | 第44-46页 |
| 4．2．5．1 霍尔迁移率、霍尔系数和载流子类型测试 | 第44-45页 |
| 4．2．5．2 方块电阻的测试分析 | 第45-46页 |
| 4．2．6 镀膜试样的红外反射光谱测试分析 | 第46-47页 |
| 4．2．7 镀膜试样的光学能隙 | 第47-48页 |
| 4．2．8 结果讨论与分析 | 第48页 |
| 4．3 不同厚度对薄膜结构和性能的影响 | 第48-54页 |
| 4．3．1 镀膜试样的 XRD测试分析 | 第48-49页 |
| 4．3．2 镀膜试样的 TEM测试分析 | 第49-50页 |
| 4．3．3 镀膜试样的 SPM测试分析 | 第50-51页 |
| 4．3．4 镀膜试样的紫外-可见光透过率测试分析 | 第51页 |
| 4．3．5 镀膜试样的 SEM测试分析 | 第51页 |
| 4．3．6 镀膜试样的方块电阻测试分析 | 第51-52页 |
| 4．3．7 镀膜试样的 XPS测试分析 | 第52-54页 |
| 4．3．8 结果讨论与分析 | 第54页 |
| 4．4 薄膜试样的化学稳定性 | 第54页 |
| 4．5 本章小节 | 第54-56页 |
| 第5章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
