玻璃基板上硅薄膜结构和性能的研究
第一章 引言 | 第1-8页 |
第二章 文献综述 | 第8-30页 |
2.1 硅薄膜的分类、性能及研究进展 | 第8-13页 |
2.1.1 单晶硅薄膜 | 第8-9页 |
2.1.2 多晶硅薄膜 | 第9页 |
2.1.3 非晶硅薄膜 | 第9-10页 |
2.1.4 纳米硅薄膜 | 第10页 |
2.1.5 一氧化硅薄膜 | 第10-11页 |
2.1.6 二氧化硅薄膜 | 第11页 |
2.1.7 氮化硅薄膜 | 第11-12页 |
2.1.8 氮氧化硅薄膜 | 第12页 |
2.1.9 碳化硅薄膜 | 第12-13页 |
2.2 化学气相沉积技术 | 第13-17页 |
2.2.1 化学气相沉积法的基本原理 | 第14-15页 |
2.2.2 薄膜沉积的影响因素 | 第15页 |
2.2.3 沉积工艺对薄膜结构和性能的影响 | 第15-17页 |
2.3 常用的化学气相沉积工艺及其工业应用 | 第17-20页 |
2.3.1 热激活化学气相沉积 | 第17-18页 |
2.3.2 等离子增强化学气相沉积 | 第18-19页 |
2.3.3 光辅助化学气相沉积 | 第19-20页 |
2.3.4 金属有机物化学气相沉积 | 第20页 |
2.4 掺杂对硅薄膜沉积的影响 | 第20-23页 |
2.5 薄膜的力学性能 | 第23-25页 |
2.5.1 薄膜的附着力 | 第23-24页 |
2.5.2 薄膜的内应力 | 第24-25页 |
2.5.3 提高附着力的途径 | 第25页 |
2.6 镀膜玻璃的分类及性能 | 第25-29页 |
2.6.1 镀膜玻璃的分类 | 第26-27页 |
2.6.2 镀膜玻璃节能性能表征 | 第27-29页 |
2.7 选题角度的确立 | 第29-30页 |
第三章 实验 | 第30-37页 |
3.1 实验设备 | 第30-31页 |
3.2 实验原料 | 第31页 |
3.3 基板清洗 | 第31-32页 |
3.4 测试方法 | 第32-37页 |
3.4.1 拉曼光谱 | 第32页 |
3.4.2 透射电子显微镜 | 第32-33页 |
3.4.3 扫描电子显微镜 | 第33-34页 |
3.4.4 薄膜与基板之间附着力的测试 | 第34-35页 |
3.4.5 傅立叶变换红外光谱分析 | 第35页 |
3.4.6 薄膜透、反射光谱的测量 | 第35页 |
3.4.7 原子力显微镜 | 第35-37页 |
第四章 实验结果与讨论 | 第37-57页 |
4.1 硅薄膜组成与结构的分析 | 第37-50页 |
4.1.1 温度对薄膜组成和结构的影响 | 第37-42页 |
4.1.2 乙烯掺杂对薄膜组成和结构的影响 | 第42-45页 |
4.1.3 乙烯掺杂对薄膜沉积速率的影响 | 第45-46页 |
4.1.4 乙烯掺杂后表面形貌的变化 | 第46-48页 |
4.1.5 硅薄膜结构成因分析 | 第48-50页 |
4.2 薄膜与玻璃基板之间附着力的分析 | 第50-54页 |
4.2.1 温度对薄膜附着力的影响 | 第51-53页 |
4.2.2 乙烯掺杂对薄膜附着力的影响 | 第53-54页 |
4.3 薄膜光学性能的研究 | 第54-57页 |
第五章 结论 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-62页 |