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玻璃基板上硅薄膜结构和性能的研究

第一章 引言第1-8页
第二章 文献综述第8-30页
 2.1 硅薄膜的分类、性能及研究进展第8-13页
  2.1.1 单晶硅薄膜第8-9页
  2.1.2 多晶硅薄膜第9页
  2.1.3 非晶硅薄膜第9-10页
  2.1.4 纳米硅薄膜第10页
  2.1.5 一氧化硅薄膜第10-11页
  2.1.6 二氧化硅薄膜第11页
  2.1.7 氮化硅薄膜第11-12页
  2.1.8 氮氧化硅薄膜第12页
  2.1.9 碳化硅薄膜第12-13页
 2.2 化学气相沉积技术第13-17页
  2.2.1 化学气相沉积法的基本原理第14-15页
  2.2.2 薄膜沉积的影响因素第15页
  2.2.3 沉积工艺对薄膜结构和性能的影响第15-17页
 2.3 常用的化学气相沉积工艺及其工业应用第17-20页
  2.3.1 热激活化学气相沉积第17-18页
  2.3.2 等离子增强化学气相沉积第18-19页
  2.3.3 光辅助化学气相沉积第19-20页
  2.3.4 金属有机物化学气相沉积第20页
 2.4 掺杂对硅薄膜沉积的影响第20-23页
 2.5 薄膜的力学性能第23-25页
  2.5.1 薄膜的附着力第23-24页
  2.5.2 薄膜的内应力第24-25页
  2.5.3 提高附着力的途径第25页
 2.6 镀膜玻璃的分类及性能第25-29页
  2.6.1 镀膜玻璃的分类第26-27页
  2.6.2 镀膜玻璃节能性能表征第27-29页
 2.7 选题角度的确立第29-30页
第三章 实验第30-37页
 3.1 实验设备第30-31页
 3.2 实验原料第31页
 3.3 基板清洗第31-32页
 3.4 测试方法第32-37页
  3.4.1 拉曼光谱第32页
  3.4.2 透射电子显微镜第32-33页
  3.4.3 扫描电子显微镜第33-34页
  3.4.4 薄膜与基板之间附着力的测试第34-35页
  3.4.5 傅立叶变换红外光谱分析第35页
  3.4.6 薄膜透、反射光谱的测量第35页
  3.4.7 原子力显微镜第35-37页
第四章 实验结果与讨论第37-57页
 4.1 硅薄膜组成与结构的分析第37-50页
  4.1.1 温度对薄膜组成和结构的影响第37-42页
  4.1.2 乙烯掺杂对薄膜组成和结构的影响第42-45页
  4.1.3 乙烯掺杂对薄膜沉积速率的影响第45-46页
  4.1.4 乙烯掺杂后表面形貌的变化第46-48页
  4.1.5 硅薄膜结构成因分析第48-50页
 4.2 薄膜与玻璃基板之间附着力的分析第50-54页
  4.2.1 温度对薄膜附着力的影响第51-53页
  4.2.2 乙烯掺杂对薄膜附着力的影响第53-54页
 4.3 薄膜光学性能的研究第54-57页
第五章 结论第57-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-62页

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