中文摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第8-22页 |
·半导体光催化的意义 | 第8-9页 |
·光催化剂和催化氧化机理 | 第9-11页 |
·常见的半导体光催化剂 | 第9-10页 |
·光催化氧化还原机理 | 第10-11页 |
·影响TiO_2光催化效率的因素 | 第11-15页 |
·晶体结构的影响 | 第11-13页 |
·晶格缺陷的影响 | 第13页 |
·颗粒粒径的影响 | 第13页 |
·催化剂投加量影响 | 第13-14页 |
·溶液pH值的影响 | 第14页 |
·光源和光照强度影响 | 第14页 |
·反应物浓度的影响 | 第14-15页 |
·提高光催化活性的途径 | 第15-17页 |
·催化剂的表面修饰 | 第15-17页 |
·加入氧化剂 | 第17页 |
·光电催化 | 第17页 |
·国内外光催化研究的现状和存在的问题 | 第17-21页 |
·环保应用研究 | 第17-19页 |
·应用方式研究 | 第19-20页 |
·存在问题及发展方向 | 第20-21页 |
·本课题研究的目标和思路 | 第21-22页 |
第二章 实验部分 | 第22-30页 |
·主要试剂和仪器 | 第22-23页 |
·主要试剂 | 第22-23页 |
·主要仪器 | 第23页 |
·实验方法及过程 | 第23-30页 |
·TiO_2微粒的制备方法的确定 | 第23-27页 |
·TiO_2光催化剂的表征方法 | 第27-28页 |
·光催化剂的催化性能评价 | 第28-30页 |
第三章 结果与讨论 | 第30-57页 |
·S-G法制备TiO_2工艺条件的研究 | 第30-46页 |
·凝胶-溶胶的优化 | 第30-39页 |
·焙烧温度的影响 | 第39-43页 |
·焙烧时间的影响 | 第43-46页 |
·S-G法最佳工艺条件 | 第46页 |
·掺杂离子的TiO_2粉体的制备、表征及光催化活性研究 | 第46-57页 |
·掺杂改性的TiO_2光催化剂的制备 | 第46-47页 |
·不同掺杂离子的TiO_2光催化活性研究 | 第47-50页 |
·不同掺杂量情况下TiO_2光催化活性的研究 | 第50-52页 |
·不同掺杂离子的TiO_2的XRD表征 | 第52-54页 |
·不同掺杂量Ag~+的TiO_2的XRD表征 | 第54-57页 |
第四章 结论 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
致谢 | 第63页 |