| 第一章 前 言 | 第1-28页 |
| ·关于甲烷部分氧化制合成气反应 | 第9-10页 |
| ·低温等离子体 | 第10-21页 |
| ·等离子体简介 | 第10-12页 |
| ·低温等离子体的形成 | 第12-13页 |
| ·气体放电的全伏安特性 | 第13-14页 |
| ·几种放电形式简介 | 第14-18页 |
| ·介质阻挡放电的相关物理问题 | 第18-21页 |
| ·等离子体空间的基本过程 | 第21-23页 |
| ·等离子体在催化剂领域的应用 | 第23-27页 |
| ·催化剂的等离子体制备 | 第23-27页 |
| ·催化剂再生 | 第27页 |
| ·本论文工作的提出及主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-36页 |
| ·实验原料及规格 | 第28-29页 |
| ·催化剂制备 | 第29-30页 |
| ·采用等体积浸渍法制备催化剂 | 第29页 |
| ·等离子体处理装置 | 第29-30页 |
| ·催化剂活性评价 | 第30-33页 |
| ·实验流程 | 第30-31页 |
| ·实验装置及仪器介绍 | 第31-32页 |
| ·催化剂活性评价反应条件 | 第32页 |
| ·分析方法 | 第32页 |
| ·催化剂活性评价指标 | 第32-33页 |
| ·催化剂表征 | 第33-36页 |
| ·比表面的测定 | 第33页 |
| ·热失重分析 | 第33页 |
| ·TPR测定 | 第33-34页 |
| ·H2的化学吸附测定 | 第34页 |
| ·SEM测定 | 第34-35页 |
| ·XRD测定 | 第35页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)测定 | 第35-36页 |
| 第三章 Ni基催化剂的表面改性 | 第36-46页 |
| ·等离子体对Ni基催化剂的改性作用 | 第36-37页 |
| ·比表面的测定 | 第37-38页 |
| ·SEM分析 | 第38-40页 |
| ·XRD分析 | 第40页 |
| ·积炭研究 | 第40-42页 |
| ·Ni分散度的测定 | 第42页 |
| ·XPS测定 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第四章 等离子体处理条件对Ni基催化剂催化活性的影响 | 第46-53页 |
| ·等离子体处理时间对Ni基催化剂的活性影响 | 第46-47页 |
| ·放电功率对催化活性的影响 | 第47-48页 |
| ·催化剂颗粒大小对等离子体处理效果的影响 | 第48-49页 |
| ·等离子体处理顺序对催化活性的影响 | 第49-50页 |
| ·辉光放电中放电气体对Ni基催化剂催化活性的影响 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第五章 等离子体对贵金属Pt催化剂的改性作用 | 第53-64页 |
| ·等离子体处理前后Pt催化剂的活性测定 | 第53-55页 |
| ·比表面的测定 | 第55页 |
| ·Pt分散度的测定 | 第55-56页 |
| ·热失重分析 | 第56页 |
| ·SEM分析 | 第56-58页 |
| ·XRD分析 | 第58-59页 |
| ·TPR谱图 | 第59-60页 |
| ·XPS测定 | 第60-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第六章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 发表论文及科研情况 | 第69-70页 |
| 附录 POM反应体系气体组成色谱图 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73页 |