| 第一章 前言 | 第1-10页 |
| 第二章 文献综述 | 第10-29页 |
| ·纳米复合材料与结构陶瓷纳米复合材料 | 第10页 |
| ·氧化铝基纳米复合材料 | 第10-11页 |
| ·氧化铝/碳化硅纳米复合陶瓷的制备及其微观结构 | 第11-14页 |
| ·氧化铝/碳化硅纳米复合陶瓷的制备 | 第11-13页 |
| ·氧化铝/碳化硅纳米复合材料的微观结构 | 第13-14页 |
| ·氧化铝/碳化硅纳米复合材料的力学性能及强韧化机理 | 第14-20页 |
| ·弯曲强度 | 第15页 |
| ·断裂韧性 | 第15-16页 |
| ·断裂模式 | 第16页 |
| ·强韧化机理 | 第16-20页 |
| ·工艺性微裂纹的减少 | 第17-18页 |
| ·位错网络的形成 | 第18页 |
| ·抛光诱发表面压应力机制 | 第18页 |
| ·退火处理引发的裂纹愈合 | 第18-19页 |
| ·颗粒桥接机制 | 第19-20页 |
| ·氧化铝/碳化硅纳米复合材料的表面性能及其研究近况 | 第20-26页 |
| ·优良的表面抛光行为 | 第20-23页 |
| ·良好的耐磨损性能 | 第23-26页 |
| ·我国在氧化铝/碳化硅纳米复合陶瓷方面的研究现状 | 第26-27页 |
| ·结语 | 第27-29页 |
| 第三章 实验方案设计与研究方法 | 第29-37页 |
| ·实验原料 | 第29页 |
| ·试验仪器和设备 | 第29-30页 |
| ·实验设计思路与关键步骤 | 第30-34页 |
| ·实验设计思路 | 第30-31页 |
| ·实验关键步骤 | 第31-34页 |
| ·性能测试方法及分析手段 | 第34-37页 |
| ·密度 | 第34页 |
| ·弯曲强度 | 第34页 |
| ·断裂韧性 | 第34页 |
| ·维氏硬度 | 第34-35页 |
| ·差示扫描量热分析 | 第35页 |
| ·X射线衍射分析 | 第35页 |
| ·扫描电镜分析 | 第35页 |
| ·晶粒尺寸测定 | 第35页 |
| ·抛光表面的光学显微分析及表面抛光率的测定 | 第35-36页 |
| ·磨损率测定 | 第36-37页 |
| 第四章 实验结果与讨论 | 第37-59页 |
| ·85Al2O3/SiC 纳米复合陶瓷的埋烧工艺研究 | 第37-41页 |
| ·还原性气氛的设计 | 第37-38页 |
| ·埋烧工艺的制定 | 第38-39页 |
| ·不同烧成气氛下烧结体的密度和微观结构对比 | 第39-41页 |
| ·还原气氛中材料的烧结致密化过程 | 第41页 |
| ·小结 | 第41页 |
| ·85Al2O3/SiC纳米复合陶瓷的力学性能和微观结构研究 | 第41-45页 |
| ·碳化硅粒径对 85Al2O3/SiC 复合陶瓷力学性能的影响 | 第41-42页 |
| ·碳化硅加入量对85Al2O3/SiC纳米复合陶瓷力学性能的影响 | 第42-43页 |
| ·纳米 SiC 对材料微观结构和断裂方式的影响 | 第43-45页 |
| ·Al2O3/SiC纳米复合陶瓷的表面抛光性能的研究 | 第45-52页 |
| ·纳米 SiC 对85Al2O3/SiC 纳米复合陶瓷表面抛光行为的影响 | 第45-47页 |
| ·SiC 粒径对 85Al2O3/SiC 纳米复合陶瓷表面抛光行为的影响 | 第47-49页 |
| ·纳米SiC含量对85Al2O3/SiC纳米复合陶瓷表面抛光行为的影响 | 第49-51页 |
| ·85Al2O3/SiC 纳米复合陶瓷的抛光去除形貌 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52页 |
| ·85Al2O3/SiC 纳米复合陶瓷的耐磨损性能研究 | 第52-55页 |
| ·SiC 粒径对85Al2O3/SiC纳米复合陶瓷耐磨损性能的影响 | 第53页 |
| ·纳米 SiC 含量对 85Al2O3/SiC 纳米复合陶瓷耐磨损性能的影响 | 第53-54页 |
| ·85Al2O3/10%SiCn 纳米复合陶瓷的磨损表面形貌 | 第54-55页 |
| ·抛光和磨损过程中材料去除的的微观机制 | 第55-57页 |
| ·85Al2O3/SiC 和高纯 Al2O3/SiC 纳米复合陶瓷特征与“纳米效应”对比 | 第57-59页 |
| 第五章 结 论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致 谢 | 第65-66页 |
| 附录:硕士研究生期间发表论文情况 | 第66页 |
