| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-22页 |
| ·引言 | 第6页 |
| ·磁致冷的基本概念 | 第6-8页 |
| ·磁致冷热力学基础 | 第8-11页 |
| ·磁热效应的测量方法 | 第11-12页 |
| ·磁制冷技术 | 第12-14页 |
| ·磁致冷材料 | 第14-19页 |
| ·本研究的背景 | 第19页 |
| ·本研究的内容和意义 | 第19-20页 |
| ·技术路线 | 第20-22页 |
| 第二章 实验设计及方法 | 第22-32页 |
| ·原材料 | 第22-23页 |
| ·合金的熔炼 | 第23页 |
| ·热处理工艺的制定 | 第23-24页 |
| ·磁热效应的测定 | 第24-29页 |
| ·其它分析仪器 | 第29-32页 |
| 第三章 不同纯度Gd的磁热效应研究 | 第32-46页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·不同纯度Gd间接测量的磁热效应 | 第32-37页 |
| ·不同纯度Gd直接测量的磁热效应 | 第37-39页 |
| ·杂质对Gd居里点的影响 | 第39-41页 |
| ·杂质对磁热效应影响的分析 | 第41-43页 |
| ·用磁比热计算Gd的磁热效应 | 第43-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 第四章 热处理对GdSiGe和GdSiGeSn合金性能的影响 | 第46-60页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·Gd_5Si_2Ge_2合金热处理后的磁热效应 | 第46-51页 |
| ·Gd_5Si_(1.9)Ge_2Sn_(0.1)合金热处理后的磁热效应 | 第51-58页 |
| ·热处理后合金磁热效应的比较 | 第58-59页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| 第五章 Gd_5Si_(1.9)Ge_2Sn_(0.1)合金显微组织的研究 | 第60-76页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·铸态微观组织形貌的研究 | 第60-63页 |
| ·热处理后合金的显微组织 | 第63-71页 |
| ·Gd_5Si_(1.9)Ge_2Sn_(0.1)热处理的结构分析 | 第71-75页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| 第六章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 附件 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
