回旋管磁控注入枪（MIG）的初始设计与优化
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-16页 |
| §1．1 回旋管的工作机理 | 第9-10页 |
| §1．2 回旋速调管 | 第10-13页 |
| §1．3 磁控注入枪 | 第13-15页 |
| §1．4 论文主要工作与贡献 | 第15-16页 |
| 第二章 数值模拟电子光学系统的基本理论与方法 | 第16-30页 |
| §2．1 EGUN软件简介 | 第16页 |
| §2．2 电子光学系统的基本理论与分析 | 第16-30页 |
| §2．2．1 电位计算 | 第17-19页 |
| §2．2．2 边界处理 | 第19-20页 |
| §2．2．3 电位迭代 | 第20-21页 |
| §2．2．4 阴极电流计算 | 第21-22页 |
| §2．2．5 电场计算 | 第22-23页 |
| §2．2．6 磁场计算 | 第23-24页 |
| §2．2．7 电子轨迹计算 | 第24-28页 |
| §2．2．8 空间电荷密度计算 | 第28-30页 |
| 第三章 磁控注入枪的初始设计方程与优化理论 | 第30-40页 |
| §3．1 磁控注入枪的初始设计 | 第30-34页 |
| §3．2 磁控注入枪的优化 | 第34-40页 |
| 第四章 单阳极磁控注入枪的初始设计与优化 | 第40-67页 |
| §4．1 单阳极磁控注入枪的初始设计 | 第40-50页 |
| §4．2 单阳极磁控注入枪的优化 | 第50-67页 |
| 第五章 双阳极磁控注入枪的初始设计与优化 | 第67-85页 |
| §5．1 双阳极磁控注入枪的初始设计 | 第67-68页 |
| §5．2 双阳极磁控注入枪的优化 | 第68-85页 |
| 结论 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
