Fe-Zr-B磁性薄膜的制备与研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第5-7页 |
| 1．1 Fe-Zr-B材料发展现状 | 第5-6页 |
| 1．2 本论文的研究思路和主要内容 | 第6-7页 |
| 第二章 Fe-Zr-B薄膜制备实验安排 | 第7-15页 |
| 2．1 概述 | 第7页 |
| 2．2 气体放电原理 | 第7-9页 |
| 2．3 直流磁控溅射原理 | 第9-12页 |
| 2．4 溅射设备 | 第12-13页 |
| 2．5 样品制备 | 第13-14页 |
| 2．6 样品的热处理 | 第14-15页 |
| 第三章 Fe-Zr-B薄膜的表征 | 第15-20页 |
| 3．1 薄膜厚度 | 第15页 |
| 3．2 X射线衍射分析 | 第15-16页 |
| 3．3 透射电子显微镜以及选区电子衍射 | 第16页 |
| 3．4 X射线光电子能谱（XPS） | 第16-17页 |
| 3．5 穆斯堡尔谱学 | 第17-18页 |
| 3．6 磁性测量 | 第18-20页 |
| 第四章 实验结果与讨论 | 第20-39页 |
| 4．1 薄膜的成分 | 第20页 |
| 4．2 溅射速率和溅射功率的关系 | 第20-21页 |
| 4．3 薄膜X射线衍射分析 | 第21-24页 |
| 4．4 透射电子显微镜及选取电子衍射结果分析 | 第24-26页 |
| 4．5 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第26-31页 |
| 4．6 穆斯堡尔谱学 | 第31-33页 |
| 4．7 Fe-Zr-B薄膜磁性能 | 第33-39页 |
| 第五章 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 附 录 | 第42-43页 |
| 致 谢 | 第43页 |
