等离子淬火微机控制系统的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·等离子淬火技术与其它淬火技术的比较 | 第12-15页 |
| ·国内外同类技术的发展现状 | 第15-17页 |
| ·课题的目的和意义 | 第17-18页 |
| ·木章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 等离子弧基本原理及设备构成 | 第19-29页 |
| ·等离子弧的基本概念 | 第19-20页 |
| ·等离子弧的结构 | 第20-21页 |
| ·等离子弧的结构分类 | 第20页 |
| ·三种电弧之间的比较 | 第20-21页 |
| ·等离子弧的伏安特性 | 第21-24页 |
| ·等离子弧淬火的参数变化 | 第24-25页 |
| ·电弧的功率密度分布 | 第25-26页 |
| ·等离子弧表面淬火设备 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 总体电路设计 | 第29-36页 |
| ·总体设计概述 | 第29-31页 |
| ·电源电路原理 | 第31-32页 |
| ·电流硬件反馈调节原理 | 第32-34页 |
| ·控制系统电路原理 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 控制系统硬件设计 | 第36-47页 |
| ·设计总体思路 | 第36-37页 |
| ·核心控制电路 | 第37-39页 |
| ·电路设计思路 | 第37页 |
| ·单片机介绍 | 第37-39页 |
| ·淬火电流控制信号输出部分 | 第39-41页 |
| ·设计思路 | 第39-40页 |
| ·D/A芯片TLC5615介绍 | 第40-41页 |
| ·淬火电流信号采集部分 | 第41-44页 |
| ·淬火电流信号采集部分 | 第41页 |
| ·芯片的选择 | 第41-42页 |
| ·AD7705介绍 | 第42-44页 |
| ·AD7705输出数据时序 | 第44页 |
| ·键盘显示电路 | 第44-45页 |
| ·设计思路介绍 | 第44-45页 |
| ·液晶显示模块 YM12864R介绍 | 第45页 |
| ·I/O口扩展电路 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 控制系统软件设计 | 第47-55页 |
| ·编译环境介绍 | 第47页 |
| ·控制系统主程序 | 第47-48页 |
| ·电流调节和设定子程序 | 第48-51页 |
| ·进程控制子程序 | 第51-52页 |
| ·A/D转换子程序 | 第52-53页 |
| ·D/A转换子程序 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 抗干扰设计及实验结果 | 第55-68页 |
| ·初期实验结果 | 第55页 |
| ·抗干扰设计 | 第55-64页 |
| ·空间电磁干扰 | 第55-57页 |
| ·电源抗干扰设计 | 第57-60页 |
| ·模拟通道的抗干扰设计 | 第60-63页 |
| ·数字通道的抗干扰设计 | 第63-64页 |
| ·PCB电路板制作的抗干扰性设计 | 第64-66页 |
| ·印刷电路板设计时应考虑的主要因素 | 第64-65页 |
| ·印刷电路板的布线原则 | 第65-66页 |
| ·后期实验结果 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第七章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 附录A 部分原程序清单 | 第71-77页 |
| 在学研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 附图 | 第79页 |
