| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-27页 |
| ·课题背景 | 第9页 |
| ·空间材料的原子氧环境效应 | 第9-15页 |
| ·低地轨道原子氧环境 | 第10-11页 |
| ·原子氧与航天器作用 | 第11-13页 |
| ·原子氧对空间材料的侵蚀 | 第13-15页 |
| ·空间重要聚合物材料聚酰亚胺 | 第15页 |
| ·抗原子氧防护技术 | 第15-16页 |
| ·聚合物材料的原子氧防护方法 | 第15-16页 |
| ·聚合物材料表面抗原子氧防护层的要求与特点 | 第16页 |
| ·聚合物材料表面改性防护技术 | 第16-22页 |
| ·溅射法 | 第17-18页 |
| ·喷雾热解法 | 第18页 |
| ·等离子体沉积法 | 第18-19页 |
| ·团簇沉积 | 第19页 |
| ·化学浴沉积(CBD) | 第19页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第19-20页 |
| ·溶胶－凝胶法(Sol-Gel) | 第20-21页 |
| ·单原子层沉积 | 第21页 |
| ·连续离子层吸附与反应法(SILAR) | 第21-22页 |
| ·SILAR法制备无机复合薄膜 | 第22-25页 |
| ·SILAR法的原理与特点 | 第22-24页 |
| ·SILAR法的研究现状 | 第24-25页 |
| ·SILAR法应用于原子氧防护技术 | 第25页 |
| ·本课题主要研究的内容 | 第25-27页 |
| 第2章 试验材料、设备及试验方法 | 第27-31页 |
| ·试验材料 | 第27-28页 |
| ·基体材料 | 第27页 |
| ·制备薄膜用化学试剂 | 第27-28页 |
| ·SILAR法薄膜沉积工艺流程 | 第28-29页 |
| ·分析测试方法 | 第29-31页 |
| ·光学性能测试 | 第29页 |
| ·X-射线衍射分析(XRD) | 第29页 |
| ·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第29页 |
| ·接触角测量 | 第29页 |
| ·原子力显微镜表面形貌分析(AFM) | 第29-31页 |
| 第3章 氧化铝薄膜的制备工艺与性能研究 | 第31-57页 |
| ·Al_2O_3薄膜制备工艺研究 | 第31-36页 |
| ·Kapton表面活化处理 | 第31-33页 |
| ·前驱体的选用 | 第33-36页 |
| ·Al_2O_3薄膜的组织结构特点及沉积过程 | 第36-50页 |
| ·原子力显微镜表面形貌分析(AFM) | 第36-39页 |
| ·X射线衍射分析 | 第39-41页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第41-44页 |
| ·沉积过程中薄膜表面活性变化规律 | 第44-50页 |
| ·Al_2O_3薄膜的性能研究 | 第50-56页 |
| ·光学透过率性能测试 | 第50-51页 |
| ·沉积层表面稳定性 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 氧化铝/氧化硅复合膜的组织结构与性能研究 | 第57-75页 |
| ·Al_2O_3/SiO_2复合薄膜沉积过程与组织结构 | 第57-69页 |
| ·Al_2O_3/SiO_2复合后的成分特点 | 第57-58页 |
| ·Al_2O_3/SiO_2复合膜的表面形貌 | 第58-60页 |
| ·X射线衍射分析 | 第60-63页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第63-66页 |
| ·沉积过程中复合薄膜表面活性变化规律 | 第66-69页 |
| ·Al_2O_3/SiO_2复合薄膜组织性能研究 | 第69-74页 |
| ·光学透过率性能研究 | 第69-71页 |
| ·沉积过程中薄膜表面活性变化规律 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 致谢 | 第82页 |