摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-14页 |
第一章 前言 | 第14-26页 |
·半导体光催化背景概述 | 第14-16页 |
·半导体光催化在能源转化上的发展 | 第14-15页 |
·半导体光催化在环境治理上的发展 | 第15页 |
·半导体光催化的其他应用 | 第15-16页 |
·半导体光催化原理分析 | 第16-18页 |
·半导体光催化剂的研究概况 | 第18-24页 |
·催化剂的改性方法 | 第18-22页 |
·催化剂的制备方法 | 第22-24页 |
·立题依据与研究方案 | 第24-26页 |
·立题依据 | 第24-25页 |
·研究方案 | 第25-26页 |
第二章 实验部分 | 第26-32页 |
·原料与试剂 | 第26-27页 |
·催化剂表征方法 | 第27-29页 |
·X 射线粉末衍射(XRD) | 第27页 |
·物理吸附仪 | 第27页 |
·扫描电镜(SEM) | 第27页 |
·场发射扫描电镜(FESEM) | 第27-28页 |
·透射电镜(TEM) | 第28页 |
·紫外可见漫反射(UV-Vis Diffuse Reflectance Spectrum) | 第28页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
·热重测试(TG-DTA) | 第28页 |
·X 射线荧光分析仪(XRF) | 第28页 |
·红外光谱分析(FT-IR) | 第28-29页 |
·光催化剂的制备 | 第29-30页 |
·各种特殊形貌结构TiO_2 的制备 | 第29页 |
·多级花状结构TiO_2 的制备 | 第29页 |
·溶剂热法Bi_2O_3 修饰多级花状结构TiO_2 的制备 | 第29-30页 |
·浸渍法Bi_2O_3 修饰多级花状结构TiO_2 的制备 | 第30页 |
·(001)高能面暴露纳米单晶TiO_2 的制备 | 第30页 |
·光催化活性测试 | 第30-32页 |
·紫外光照射下光催化活性测试 | 第30-31页 |
·可见光照射下光催化活性测试 | 第31-32页 |
第三章 醇热方法合成特殊形貌结构TiO_2及其光催化性能研究 | 第32-49页 |
·引言 | 第32页 |
·TiOSO_4-乙醇(或丙三醇、叔丁醇)体系 | 第32-36页 |
·单醇体系合成样品的形貌分析 | 第32-33页 |
·纳米片层状结构的形成机理讨论 | 第33-36页 |
·不同溶剂反应活泼性比较 | 第36页 |
·TiOSO_4-乙醇-丙三醇体系 | 第36-42页 |
·双醇体系合成样品的形貌分析 | 第36-38页 |
·样品GE-TiO_2 形貌结构的影响因素 | 第38-42页 |
·TiOSO_4-乙醇-丙三醇-共溶剂体系 | 第42-44页 |
·样品的结构分析 | 第44-47页 |
·样品的形貌分析 | 第44-45页 |
·样品的XRD 分析 | 第45页 |
·样品的结构参数分析 | 第45-46页 |
·样品的紫外可见漫反射图谱分析 | 第46-47页 |
·构效关系研究 | 第47-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第四章 多级花状结构TiO_2的合成及其Bi_2O_3可见光修饰 | 第49-65页 |
·引言 | 第49页 |
·FLT 样品的结构表征 | 第49-53页 |
·FLT 样品的形貌结构分析 | 第49-51页 |
·FLT 样品的XRD 分析 | 第51-52页 |
·FLT 样品的结构参数分析 | 第52页 |
·F LT 样品的紫外可见漫反射图谱分析 | 第52-53页 |
·Bi-FLT 样品的结构表征 | 第53-60页 |
·Bi-FLT 样品的XPS 表征结果 | 第53-55页 |
·Bi-FLT 样品的XRD 图谱分析 | 第55-56页 |
·Bi-FLT 样品的形貌结构分析 | 第56-58页 |
·Bi-FLT 样品的紫外可见漫反射图谱分析 | 第58-59页 |
·Bi-FLT 样品的结构参数分析 | 第59-60页 |
·样品的光催化活性评价 | 第60-64页 |
·FLT 样品的紫外光活性研究 | 第60-62页 |
·Bi-FLT 样品的可见光活性研究 | 第62-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第五章 (001)高能面暴露纳米单晶TiO_2的合成及其光催化性能研究 | 第65-73页 |
·引言 | 第65页 |
·样品的结构表征 | 第65-71页 |
·样品的XRD 分析 | 第65-66页 |
·样品的形貌结构分析 | 第66-68页 |
·样品的结构参数分析 | 第68-70页 |
·样品的XPS 表征结果 | 第70-71页 |
·纳米单晶的活性研究 | 第71-72页 |
·本章小节 | 第72-73页 |
第六章 总结与展望 | 第73-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-86页 |
个人简历及发表论文情况 | 第86-87页 |